异靛蓝季铵盐的合成及其在铜电镀中的应用

《Journal of Materials Chemistry C》：Synthesis and application of isoindigo quaternary ammonium salts in copper plating

铜电沉积中异吲哚四价铵盐添加剂的合成与应用研究。通过电化学测试、理论计算和分子动力学模拟，证实异吲哚衍生物可作为 leveling剂和阴极吸附剂，其中IID-C4-QL在抑制铜沉积、提升孔洞填充均匀性方面表现最优，经实际电镀验证。

　　

通过铜电沉积实现均匀的通孔填充对于印刷电路板（PCB）的制造非常重要，而开发合适的添加剂是实现高效电沉积的关键步骤。以异靛分子为核心骨架，合成了五种异靛（IID）季铵盐。电化学测试、理论计算和分子动力学模拟表明，这些异靛衍生物具有平坦化作用，并表现出电极吸附能力，其中IID-C4-QL在抑制铜沉积方面表现最佳，同时在阴极吸附能力上也最为突出。实际电镀测试进一步证实了IID-C4-QL的高通孔填充效果和优异的平坦化性能。