交替电场辅助基质纳米涂层技术实现高空间分辨率MALDI成像新突破

本研究针对基质辅助激光解吸电离质谱成像（MALDI-MSI）中基质涂层均匀性与分析物原位富集效率的瓶颈问题，开发了交替电场辅助基质纳米涂层（AEFAMnC）新技术。该技术通过非对称交变电场实现纳米级基质结晶（最小晶体尺寸约70 nm）和重复强制微萃取过程，显著提升化合物原位富集效果与共结晶质量，在5-μm像素尺度下成功应用于大鼠脑组织、萌发红豆杉种子及单细胞等多类生物样本的高分辨率成像，为空间组学研究提供突破性技术支撑。

　　

通过交替电场辅助基质纳米涂层（Alternating Electric Field-Assisted Matrix Nano-Coating, AEFAMnC）技术，研究人员实现了基质纳米级结晶（最小晶体尺寸约70 nm）与样品表面化合物的高效原位富集。该技术利用非对称交变电场触发重复强制微萃取过程，显著提升分析物与基质的共结晶效果，最终在5-μm像素尺度下增强了大鼠脑组织、萌发红豆杉种子及单细胞等多种生物样本内源性化合物的原位电离效率与高分辨率成像性能。这一突破为高空间分辨率基质辅助激光解吸电离质谱成像（MALDI-MSI）提供了全新解决方案，尤其在基于质谱的单细胞空间组学研究中具有深远意义。