纯NiO/氧化石墨烯薄膜以及掺铝NiO/氧化石墨烯薄膜在氧化铝（Grafoil）基底上的伪电容行为

《Next Energy》：Pseudocapacitive behavior of pure and Al-doped NiO/Graphene oxide films on grafoil sheet

NiO/GO涂覆 grafoil 电极通过热沉积制备，表征证实纳米结构形成，在2M和3M KOH电解液中比电容分别为172/181.25（纯NiO）、137.53/157.05（2% Al-NiO）、89.92/93.75（4% Al-NiO）F/g，经100次循环稳定性良好。

　　

N.V. 斯里尼瓦萨 | 安贾娜·西蒙 | 巴萨瓦拉杰·安加迪 | H.M. 马赫什 | 西瓦拉杰·亚拉帕

摘要

由于对高效储能设备的需求不断增加，金属氧化物纳米薄膜作为下一代超级电容器的重要组成部分而备受关注。通过将纯NiO和掺铝NiO热沉积到氧化石墨烯（GO）上，随后将涂有NiO的GO滴涂到石墨片上，制备了电极，从而提高了其电化学性能。采用X射线衍射、傅里叶变换红外光谱、拉曼光谱和扫描电子显微镜（SEM）对复合电极进行了表征，确认了纳米级NiO涂层的形成以及Ni–O和GO相关的振动模式的存在。在2 M和3 M KOH电解质中的电化学测试显示出了明显的赝电容行为。在10 mV/s的扫描速率下，未掺杂、掺2% Al和掺4% Al的NiO电极在2 M KOH中的比电容值分别为172 F/g、137.53 F/g和89.92 F/g；而在3 M KOH中分别为181.25 F/g、157.05 F/g和93.75 F/g。所有电极均表现出优异的循环稳定性，在100 mV/s的扫描速率下经过100次充放电循环后仍能保持其性能。这些结果表明，NiO/GO涂层的石墨电极，尤其是未掺杂的NiO电极，是高性能超级电容器应用的理想候选材料。