强迫症大脑皮质厚度变化及其与基因及神经递质特征空间关联的荟萃分析

《Translational Psychiatry》：Reduced cortical thickness in obsessive-compulsive disorder and candidate molecular correlates

　　

摘要

强迫症（OCD）与大脑皮质厚度（C cortical thickness, CTh）缺陷之间的关联尚无定论，其潜在的分子机制仍不完全清楚。为了解决这一问题，本研究旨在探讨强迫症患者的大脑皮质厚度变化，评估可能的临床和方法学混杂因素，并探索这些变化与分子特征之间的空间关联性。我们首先进行了荟萃分析，比较了强迫症患者与健康对照组之间的大脑皮质厚度差异，随后通过亚组分析和元回归分析来评估临床和方法学变量的影响。此外，还分析了强迫症患者的大脑皮质厚度变化与基因转录组及神经递质特征之间的空间关联性。荟萃分析结果显示，与对照组相比，强迫症患者左侧后扣带回皮层（PCC）、左侧前扣带回皮层（ACC）和右侧结节部（pars opercularis）的皮质厚度存在显著减薄，不过左侧前扣带回皮层的结果受到较大的发表偏倚影响。亚组分析进一步发现，接受药物治疗的强迫症患者以及共病患者中，左侧下顶叶和右侧PCC区域的皮质厚度进一步减薄。相关性分析表明，强迫症患者的大脑皮质厚度变化与某些基因相关，这些基因主要参与突触信号传导和组织过程，且在兴奋性神经元、抑制性神经元及胶质细胞中高度表达，这些基因与兴奋性/抑制性神经元的平衡及信号转导效率密切相关。此外，强迫症患者的大脑皮质厚度变化还与多种神经递质系统有关，主要包括谷氨酸、5-羟色胺、多巴胺和γ-氨基丁酸。综上所述，这些研究结果表明，强迫症患者在与默认模式网络（default mode network）及扣带回-结节网络（cingulo-opercular networks）相关的大脑区域存在皮质厚度缺陷，这些缺陷受到药物使用和共病状况的影响；同时，这些皮质厚度变化与基因及神经递质特征存在空间关联，主要涉及突触和谷氨酸通路，为理解强迫症的神经生物学机制提供了有价值的启示。