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《RSC Advances》:Facile smartphone-assisted colorimetric detection of high-load Hg2+ in industrial wastewater using a silica-supported ion-imprinted polymerOpen Access

【字体: 大 中 小 】 时间:2026年11月04日 来源:RSC Advances 6.1

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  传统比色Hg2+传感器主要面向痕量检测,限制了其在含高浓度汞的工业废水中的应用。研究人员开发了一种二氧化硅负载的APTES–TEOS离子印迹聚合物(SiO2@MIP,ion-imprinted polymer,IIP),用于智能手机辅助比色检测工业废水中的高载

  
传统比色Hg2+传感器主要面向痕量检测,限制了其在含高浓度汞的工业废水中的应用。研究人员开发了一种二氧化硅负载的APTES–TEOS离子印迹聚合物(SiO2@MIP,ion-imprinted polymer,IIP),用于智能手机辅助比色检测工业废水中的高载量Hg2+。所合成材料通过傅里叶变换红外光谱(FTIR)、拉曼光谱(Raman spectroscopy)和X射线光电子能谱(XPS)进行表征;Hg2+检测通过紫外-可见分光光度法(UV-vis spectrophotometry)与Photometrix智能手机应用评价。该方法工作浓度范围为1 mM–100 mM,约12.5 mM以上出现吸附饱和,具有强对数校准关系(R2=0.9878),定量限为1.35 mM。选择性实验表明在10 mM竞争金属离子及混合离子基质中优先识别Hg2+。该方法重复性满意,定量范围内相对标准偏差(RSD)为2.9%–5.9%。在造纸工业废水加标回收实验中回收率达94.02%–96.11%,与ICP-MS参比方法(95.24%–99.84%)相当。结果表明,基于SiO2@MIP的智能手机比色法可替代复杂仪器,用于工业废水中高载量Hg2+的现场初筛。
研究背景与问题提出
汞离子(Hg2+)是高危金属污染物,工业异常工况或事故排放可使废水中汞浓度达到数十至数百mg L-1。现行监管监测依赖ICP-MS、AAS等高灵敏仪器,面向ppb至低ppm排放限值;而过程控制筛查更关注“是否处于重污染区间”与处理工艺触发判断。已有智能手机比色Hg2+传感器多针对亚微摩尔至ppb痕量场景,在高离子强度、高载量工业废水中存在界面饱和、竞争离子干扰和需大幅稀释等问题。因此,研究人员拟构建一种兼具高容量、高选择性和免仪器读出的现场筛查平台。
研究人员通过开展二氧化硅负载APTES–TEOS离子印迹聚合物(SiO2@MIP)的制备、表征与比色检测研究,得出该材料可在1–100 mM范围对数响应、对Hg2+具有优先识别、在造纸废水基质中回收率接近ICP-MS的结论,意义在于把智能手机传感从“痕量环境监测”拓展到“高载量工业过程筛查”。
主要关键技术方法
研究人员采用St?ber法制备纳米二氧化硅,经APTES与TEOS溶胶-凝胶共聚合并在Hg2+模板存在下构建印迹层,EDTA/硝酸洗脱形成识别空腔;以非印迹聚合物(SiO2@NIP)作对照。表征依靠FTIR、Raman、XPS、SEM/TEM/DLS。检测端先用二甲酚橙(xylenol orange,XO)与腔位捕获的Hg2+显色,UV-vis测580 nm吸收;再用暗箱与白光光源固定手机取图,Photometrix读取蓝通道强度做差分量化。真实样本采用越南Kraft Vina造纸厂工业废水,含Na+、K+、Ca2+、Al3+、Cr3+、Pb2+各约10 mM混合基质,并以ICP-MS作参比。
研究结果
材料化学与形貌表征
通过FTIR、Raman与XPS确认SiO2表面成功接枝APTES–TEOS共聚物网络;XPS中Hg 4f信号证明模板引入与洗脱后亚表面残留。SEM/TEM显示核壳结构,聚合物壳层约32 nm,印迹后表面粗糙化,说明形成目标互补空腔。
比色响应与吸附机制
XO在HMTA缓冲中与Hg2+–XO复合物显紫红,UV-vis在580 nm增强。SiO2@MIP吸附加色显著强于NIP,印迹因子IF=6.3;>12.5 mM趋近饱和。UV-vis信号满足(AN?A0)=0.325 log(CHg2+)?0.786(R2=0.9951)。
智能手机比色定量
Photometrix蓝通道差分与浓度呈对数关系:纯水中|SN?S0|=?12.559 log(C)+79.219(R2=0.9937);废水基质中调整为|SN?S0|=?16.744 log(C)+99.449(R2=0.9878)。LOD 0.41 mM,LOQ 1.35 mM,RSD 2.9%–5.9%。
选择性验证
10 mM单离子实验中Hg2+吸收约为其他离子2–3.6倍;混合废水里竞争使信号约为纯水0.7倍,但过滤洗涤后选择性保留。
实际废水验证
造纸废水加标回收:Photometrix法94.02%–96.11%,ICP-MS参比95.24%–99.84%,证明基质干扰可被废水专用曲线补偿。
讨论与结论翻译
讨论指出,该方法约60 min达吸附平衡,适合周期筛查;材料在常温实验室使用六个月性能稳定。相比痕量传感,其优势是高载量区间、选择性空腔识别与免光谱仪读出,局限是检出限偏高、响应较慢,不替代合规监测。结论如下:研究人员证实,SiO2@MIP结合智能手机比色能够在不依赖精密仪器的条件下,对工业废水中毫摩尔级高载量Hg2+进行选择性、可重复、准定量现场筛查,并为异常排放分流与初级中和工艺提供快速判断依据。
论文解读已按评审口径完成,接下来可以选择一个方向继续深化:
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