热处理对高氢电沉积铜氢脆的影响:组织演变、氢泡再分布与慢应变速率拉伸响应

《Materials and Corrosion》:Effect of Heat Treatment on Hydrogen Embrittlement of Electrodeposited Copper

【字体: 大 中 小 】 时间:2026年11月04日 来源:Materials and Corrosion 2

编辑推荐:

  本研究考察了在酸性镀液中制备、经热处理后电沉积于钢上的铜涂层的拉伸行为。该铜在慢应变速率(1 × 10?6 s?1)下呈脆性,但在快应变速率(1 × 10?3 s?1)下呈

  
本研究考察了在酸性镀液中制备、经热处理后电沉积于钢上的铜涂层的拉伸行为。该铜在慢应变速率(1 × 10?6 s?1)下呈脆性,但在快应变速率(1 × 10?3 s?1)下呈延性。电沉积后,在整个材料中观察到均匀分布的微小空腔(cavities)。微观结构和化学成分表征表明,将电沉积(electrodeposition, ED)铜在600°C退火可增大晶粒尺寸,并使邻近铜-钢沉积界面的形貌由层状转变为等轴(equiaxed)。600°C退火释放了初始17.8 ± 4.0 wppm(weight parts per million,质量百万分率)氢含量中约32%的氢。对退火样品的纳米分析(nano-analysis)显示,空腔在晶界、孪晶(twins)和位错(dislocations)处发生再分布和合并。600°C退火样品的慢应变速率(1 × 10?6 s?1)拉伸试验仍表现出显著的应变速率敏感性(strain rate sensitivity),与非热处理材料相似,且延性仅小幅改善。研究人员推测,退火过程中溶质氢原子(solute hydrogen atoms)在位错上的再分布是这一现象的原因。
研究背景:氢脆(hydrogen embrittlement, HE)是金属及合金失效的重要原因,尤其对铁素体钢备受关注。铜在室温下氢溶解度极低,粗晶铜在慢加载下通常未显示明显HE;但电沉积(ED)铜在酸性水溶液中沉积时,析氢反应可使氢以远超名义溶解度的量进入铜中,并在位错、晶界、空位和微孔等缺陷处富集,形成 pressurized bubbles 或空腔(cavities),影响力学性能。Williams et al. 曾发现高氢酸性浴电沉积铜(ED-Ac)在慢应变速率拉伸(slow strain rate tensile, SSRT)下发生脆断,而低氢碱性浴电沉积铜(ED-Py)不明显。加拿大NWMO计划将铜包钢罐用于核废料深地质处置,铜涂层提供耐蚀性、钢提供强度,电沉积是关键制造工艺;因此需评估高氢ED-Cu的氢行为及热处理能否改善其力学性能。本研究以NWMO提供的ED-Ac和ED-Py铜为对象,考察退火对杂质、显微组织和拉伸性能的影响,分析退火过程中氢的演化及其对拉伸和断裂行为的作用,目标是判断热处理能否改善含显著氢的ED-Cu力学性能。

关键技术与方法(不超过250字):样本来源为NWMO提供的、在ASTM A106 Gr. C无缝碳钢管上电沉积约3 mm铜的ED-Ac与ED-Py材料,具体电沉积参数为专有信息。样品在空气中于300、400、500和600°C退火1 h后炉冷。关键技术包括:按ASTM E8/E8M-13a从铜涂层取拉伸样,在室温以1 × 10?3、1 × 10?5和1 × 10?6 s?1进行拉伸;用扫描电子显微镜(scanning electron microscopy, SEM)观察断口;用电子背散射衍射(electron backscatter diffraction, EBSD)分析界面附近晶粒;用透射电子显微镜(transmission electron microscopy, TEM)/扫描透射电子显微镜(scanning transmission electron microscopy, STEM)结合能谱(energy-dispersive X-ray spectroscopy, EDS)和电子能量损失谱(electron energy loss spectroscopy, EELS)分析空腔与成分,并采用低温离子减薄;用LECO分析H、O、S、C等痕量元素。

研究结果:
3.1 晶粒形貌与化学成分:通过EBSD和化学成分分析,沉积态ED-Ac近界面为超细层状晶,平均晶粒尺寸1.81 μm;300°C退火后为1.89 μm,形貌和尺寸无显著变化;400、500和600°C退火后平均晶粒尺寸分别增至2.39、2.65和3.10 μm,600°C时呈完全等轴组织。沉积态ED-Ac氢含量为17.8 ± 4.0 wppm,400°C和500°C仅轻微降低,600°C释放约32%的氢至12.0 ± 1.2 wppm;碳含量随退火温度升高而降低,氧含量近乎不变,硫在测量不确定度内无显著变化。与ED-Py的低氢含量5.25 ± 0.97 wppm相比,ED-Ac氢含量显著更高;与Williams et al.报道的ED-Ac 26.4 ± 1.0 wppm差异可能来自批次波动。
3.2 拉伸性能演变:通过不同应变速率拉伸试验,ED-Py随应变速率降低延性连续增加,断裂伸长率由51.6%升至64.2%,符合典型金属行为;ED-Ac在1 × 10?3 s?1下断裂伸长率为28.8%,在1 × 10?6 s?1下呈主要脆性断裂,断裂应变仅9.8%。600°C退火后,快应变下抗拉强度略降、断裂伸长率提高至54.5%;但慢应变下仍呈脆性,断裂应变仅由9.8%提高至15.3%。该600°C退火样品在慢应变塑性区出现载荷下降,原文将其作为动态应变时效(dynamic strain aging, DSA)的待验证迹象;该现象仅见于该热处理条件的慢应变试验。讨论指出,600°C退火使抗拉强度由321.8 ± 2.4 MPa降至191.8 ± 0.6 MPa。
3.3 纳米尺度TEM分析:通过室温与?180°C离子减薄、Fresnel对比成像(Fresnel contrast imaging)、STEM-EDS和EELS厚度分析,沉积态ED-Ac在室温减薄时仅见少量较大空腔,低温减薄可保存更多空腔;空腔在组织中均匀分布,未明显偏聚于晶界、孪晶或位错。EDS检测到碳、氧和氯;EELS显示空腔处厚度低于基体,支持其为空腔并可能由氢稳定。600°C退火后空腔显著增大至微米级,多数失去球形,主要偏聚于晶界和孪晶界,也见于位错;说明退火过程中空腔发生迁移和粗化。EDS未在空腔内检测到显著元素,且未检测到退火后显著氯,EELS证实其非析出相或第二相;原文因不能明确区分空洞或气泡而统称cavities。
3.4 断口形貌:通过SEM观察慢应变断口,ED-Py断口较均匀并呈韧窝等韧性特征;ED-Ac虽见韧窝,但存在晶界偏聚和空腔证据;600°C退火ED-Ac仍见韧性断裂痕迹,但断口遍布较大空腔。

讨论与结论:讨论认为,沉积态ED-Ac的层状细晶多为高角晶界,500°C退火对取向差影响不显著,600°C时高角晶界比例略降并形成等轴、无强择优取向组织,组织变化导致强度下降。电沉积过程中析出的氢可被位错、晶界和微孔捕获,低温减薄保存的空腔支持氢泡存在;600°C时氢扩散加速,部分氢释放,空腔经Ostwald熟化(Ostwald ripening)粗化并向晶界、孪晶界和位错迁移;较高氧含量及空腔不规则形貌提示空腔内可能生成水。Okinaka et al.将铜中氢分为可扩散氢和残余氢;退火后残余氢可与碳、氧等陷阱相关,剩余约68%的氢以晶格/空位原子氢、空腔内分子氢或水等形式存在。慢应变脆化更可能源于溶质氢原子与位错的交互,而非传统Orowan空洞机制,因为快应变下空腔应更有效地阻碍位错;慢应变给氢扩散和与位错交互提供时间。断口晶间裂纹和较大空腔与HE一致;弥散障碍硬化模型以空腔密度约1.8–2.5 × 1022 m?3、直径约3 nm和α = 0.2估算出约50–60 MPa的强度增量,与ED-Py和ED-Ac强度差大致相符。600°C退火后空腔迁至晶界和孪晶并长大,可能促进晶间断裂,但不能解释慢应变脆化本身;慢应变曲线载荷下降被原文归为可能DSA,即溶质原子限制位错运动,退火改变氢在基体和缺陷处的分布,残余氢仍可在慢应变中与位错交互,未来需原位TEM验证。

研究结论部分翻译:本研究考察了热处理对电沉积铜HE的影响。基于显微组织、化学和拉伸性能表征,可得出以下结论:低温热处理(低于400°C、1 h)对ED-Ac铜的晶粒形貌、取向差角和/或痕量元素百分比无显著影响;将退火温度提高至600°C、1 h会影响这些性能,并使材料氢含量降低约三分之一。ED-Ac铜中的氧和碳杂质可能在热处理中作为氢陷阱,将原子氢捕获于空位,使气泡中可能生成水,并可能形成含碳化合物。退火至600°C可恢复部分延性,但未解决ED-Ac铜在慢应变速率下的脆性断裂;观察到晶间断裂和DSA。这些现象可能通过氢原子在位错上的再分布以及空腔向晶界和孪晶的迁移与合并而发生;间隙溶解氢也可能参与HE机制。本研究表明,对于含显著氢量的铜,需要热处理之外或附加策略来改善其力学性能。
相关新闻
生物通微信公众号
微信
新浪微博
  • 搜索
  • 国际
  • 国内
  • 人物
  • 产业
  • 热点
  • 科普

热点排行

    今日动态 | 人才市场 | 新技术专栏 | 中国科学人 | 云展台 | BioHot | 云讲堂直播 | 会展中心 | 特价专栏 | 技术快讯 | 免费试用

    版权所有 生物通

    Copyright© eBiotrade.com, All Rights Reserved

    联系信箱:

    粤ICP备09063491号