研究人员提出了一种基于垂直排列碳纳米管(VACNT)的独立式散热器,用于电子与半导体器件的被动多模态热管理。该VACNT通过轴向传导、纳米多孔形貌促进的对流以及优异发射率(emissivity)驱动的辐射实现多模态散热。传统金属散热器表面发射率较低,需复杂后处理以增强辐射冷却;而该VACNT凭借本征多尺度结构层级,无需二次表面修饰即可突破上述限制。研究人员采用激光闪射法(LFA)与差示扫描量热法(DSC)表征了高度为500至1500 μm的独立式VACNT,其热导率为32至40 W/m·K。在Raspberry Pi Zero 2 W平台上,1500 μm高VACNT散热器相较裸CPU使峰值CPU温度降低10.7°C;通过构型化图案设计进一步增加表面积后,其峰值CPU温度较常规铝制散热器低6.7°C。循环稳定性测试表明其重复使用时热性能一致。该VACNT可通过模压、卷曲、裁剪与拼贴等方式灵活构型,展现出面向多样热管理应用的通用性。
研究人员采用化学气相沉积(CVD)在SiO?基底上以Fe/Al?O?催化层生长VACNT,并通过控制乙烯供气时间获得100至1500 μm不同高度;利用Ar/空气氛围中600°C催化层氧化实现无基底自支撑剥离。热学表征方面,以激光闪射法(LFA)测纵向热扩散系数,以差示扫描量热法(DSC)测比热容,结合密度计算热导率,并以拉曼光谱评估结晶质量。器件验证以Raspberry Pi Zero 2 W为热源,经热界面材料(TIM)贴装VACNT,在全负载下监测CPU温度与红外热像;进一步通过3D打印模具压印鳍片阵列构型,并与商用铝散热器及阳极氧化铝对比,辅以Cu溅射覆盖实验与不同纳米孔隙率样品验证辐射与孔隙贡献,最后进行50次热循环稳定性测试。
本研究开发了直接利用多尺度结构的VACNT独立式散热器,用于被动多模态热管理。该VACNT通过催化层氧化从生长基底洁净剥离,在500–1500 μm高度下具备32–40 W/m·K热导率并保持可操作力学性能。在Raspberry Pi Zero 2 W平台上,1500 μm VACNT使峰值稳态CPU温度较裸CPU降低10.7°C;图案化VACNT在相同构型下较商用铝散热器再低6.7°C。该优势源于VACNT表面高发射率(ε≈0.98)带来的高效辐射,以及纳米多孔结构提供的大有效对流面积。图案化器件在反复热循环中表现稳定,并可成型为鳍片、蜂窝与网格等构型。结合其可卷曲、可裁剪、可拼贴特性,VACNT为下一代电子器件同时利用传导、对流与辐射的被动冷却系统提供了可行策略。