基于光子晶体外延技术的高功率、低发散、单横截面模式的795纳米半导体激光器
侯炳琪(Bingqi Hou)
王宇飞(Yufei Wang)
齐艾怡(Aiyi Qi)
陈阳(Yang Chen)
廖子渊(Ziyuan Liao)
周旭燕(Xuyan Zhou)
郑万华(Wanhua Zheng)
《Photonics》:High-Power, Low-Divergence, Single Cross-Sectional-Mode 795 nm Semiconductor Laser Based on Photonic Crystal Epitaxy
Bingqi Hou,
Yufei Wang,
Aiyi Qi,
Yang Chen,
Ziyuan Liao,
Xuyan Zhou and
Wanhua Zheng
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时间:2026年04月09日
来源:Photonics 1.9
摘要
795纳米的波长对应于铷原子的D1跃迁,这一波长在原子光学泵浦、原子钟、磁强计和精密光谱学中得到了广泛应用。为了实现紧凑的自由空间准直、光束整形以及高效的光纤耦合,具有较低快轴(垂直)发散角的边缘发射半导体激光器是非常理想的。然而,在795纳米波长下实现低发散角的设计仍然存在局限性。在这里,我们提出并展示了用于795纳米边缘发射激光器的低发散角光子晶体外延(LD–PC)技术。通过设计周期性的n侧光子晶体堆栈,将基模垂直模式置于光子带边缘附近,可以在保持有效模式区分度的同时扩展垂直模式。基于GaAsP/AlGaAs单量子阱外延技术的窄脊Fabry–Pérot激光器被制造并进行了表征。优化后的LD–PC器件(脊宽3微米,腔长1毫米)在200毫安电流下输出227毫瓦的功率,阈值电流为23毫安,斜效率为1.28瓦/安,以及在25摄氏度连续波工作时的峰值壁插效率为55%。测量得到的远场发散角(FWHM)分别为7.16°(横向)和18.83°(垂直方向),这意味着与参考结构相比,垂直发散角从超过40°降低到了小于20°。这些结果验证了光子晶体外延技术是实现紧凑、高性能、低发散角795纳米半导体激光源的有效途径,适用于基于铷的原子系统。
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