基于SMS-EMOA的多目标设计-技术协同优化方法,用于5纳米全栅极晶体管
《IEEE Transactions on Electron Devices》:SMS-EMOA-Driven Multiobjective Design-Technology Co-Optimization for 5-nm Gate-All-Around Transistors
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时间:2026年05月08日
来源:IEEE Transactions on Electron Devices 3.2
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摘要:由于物理效应和二阶效应的复杂性,优化5纳米以下器件的电学性能极具挑战性。本文提出了一种基于S-Metric选择进化多目标优化算法(SMS-EMOA)的设计-技术协同优化(DTCO)框架。该框架通过集成一个轻量级的性能预测替代模型,在严格的制造约束下高效地识别出帕累托前沿。
摘要:
由于物理效应和二阶效应的复杂性,优化5纳米以下器件的电学性能极具挑战性。本文提出了一种基于S-Metric选择进化多目标优化算法(SMS-EMOA)的设计-技术协同优化(DTCO)框架。该框架通过集成一个轻量级的性能预测替代模型,在严格的制造约束下高效地识别出帕累托前沿。与直接的技术计算机辅助设计(TCAD)相比,该方法实现了62× 的加速效果,并将峰值内存使用量从12GB降低到约200MB。此外,可以从I – V 和 C – V 数据,实现了快速的电路级验证。考虑到后端互连寄生参数,DTCO在具有布局意识的97级NAND2环形振荡器上进行了优化。与随机基线相比,优化后的器件功耗降低了34%,性能提高了65%,同时SRAM静态噪声裕度(SNM)提高了25%以上,从而增强了稳定性。该框架建立了跨工艺、器件、布局和电路协同优化的紧密且可扩展的连接。
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