采用蚀刻技术在薄膜上制造出具有特定毛细流动方向的多孔基底

《Surfaces and Interfaces》:Track-etched membranes as porous substrates with a preferential direction of capillary flow

【字体: 大 中 小 】 时间:2026年05月16日 来源:Surfaces and Interfaces 6.3

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  奥尔加·A·波列扎耶娃(Olga A. Polezhaeva)|奥尔加·V·克里斯塔夫丘克(Olga V. Kristavchuk)|亚历山大·N·涅恰耶夫(Alexander N. Nechaev)|奥列格·L·奥列洛维奇(Oleg L. Orelovich)|帕维尔·Y·阿佩

  
奥尔加·A·波列扎耶娃(Olga A. Polezhaeva)|奥尔加·V·克里斯塔夫丘克(Olga V. Kristavchuk)|亚历山大·N·涅恰耶夫(Alexander N. Nechaev)|奥列格·L·奥列洛维奇(Oleg L. Orelovich)|帕维尔·Y·阿佩尔(Pavel Y. Apel)
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    离子轨迹蚀刻技术可用于制备各向异性的多孔基底
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    相互交错的蚀刻离子轨迹阵列可形成三维多孔结构
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    毛细流动的优先方向由离子轨迹的排列方向决定
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    各向异性的程度取决于通道的排列方式及孔隙率
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    通过调整通道的倾斜角度可以控制毛细流速
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