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纳米级台阶在Σ3{111}孪晶界处引发不稳定性,并促进位错胞的强化作用
《Scripta Materialia》:Nano-steps induce instability at Σ3{111} twin boundaries and promote dislocation cell strengthening
【字体: 大 中 小 】 时间:2026年06月09日 来源:Scripta Materialia 5.6
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李焕清|赵玉红|李宁|王新宇|宋卓|侯华摘要位错胞(Dislocation Cell, DC)强化是一种有效且新颖的方法,能够协同提升金属材料的强度和延展性。本研究通过在粗晶样品中引入均匀的位错胞结构,实现了超出Hall-Petch关系预测的强化效果。首先通过原子尺度表征和相场晶