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环糊精辅助的缺陷富集MoWO3–x材料在有机污染物的协同吸附与光催化降解中的应用
《Advanced Composites and Hybrid Materials》:Cyclodextrin-assisted defect-rich MoWO3–x for synergistic adsorption–photocatalytic degradation of organic pollutants
【字体: 大 中 小 】 时间:2026年06月10日 来源:Advanced Composites and Hybrid Materials 21.8
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摘要要提高有机污染物的吸附和光催化降解性能,需要同时优化界面性质和内在电子结构。本文报道了一种采用γ-环糊精(γ-CD)辅助的水热合成方法来制备钼钨氧化物(γ-MoWO3?x):γ-CD不仅提升了材料的表面活性,还引入了大量结构缺陷。由于γ-CD衍生的羟基基团,γ-MoWO3?x
要提高有机污染物的吸附和光催化降解性能,需要同时优化界面性质和内在电子结构。本文报道了一种采用γ-环糊精(γ-CD)辅助的水热合成方法来制备钼钨氧化物(γ-MoWO3?x):γ-CD不仅提升了材料的表面活性,还引入了大量结构缺陷。由于γ-CD衍生的羟基基团,γ-MoWO3?x的表面积增加了2.9倍,表面电荷也变得更负(–27.25至–43.02 mV)。γ-CD既充当原位还原剂,又诱导缺陷形成,从而产生了丰富的缺陷氧物种,并部分使金属氧化物晶格非晶化,有效调节了材料的能带结构。因此,γ-MoWO3?x对亚甲蓝的吸附和光催化降解能力提高了3.09倍,在1太阳光照射下40分钟内即可实现超过98%的去除率。机理研究表明,该材料主要通过空穴途径进行氧化。纳秒瞬态吸收光谱显示γ-MoWO3?x积累了更多的光生空穴,并且快速空穴衰减组分占比较高,这表明其表面可利用的空穴数量较多,从而增强了氧化反应性。光致发光猝灭和电化学阻抗谱进一步表明载流子复合现象得到抑制,电荷迁移率也有所提高。总体而言,这项工作提出了一种简单且可扩展的环状寡糖介导的方法,用于同时实现缺陷工程和界面工程,为下一代光催化剂的研发提供了宝贵的设计思路。
要提高有机污染物的吸附和光催化降解性能,需要同时优化界面性质和内在电子结构。本文报道了一种采用γ-环糊精(γ-CD)辅助的水热合成方法来制备钼钨氧化物(γ-MoWO3?x):γ-CD不仅提升了材料的表面活性,还引入了大量结构缺陷。由于γ-CD衍生的羟基基团,γ-MoWO3?x的表面积增加了2.9倍,表面电荷也变得更负(–27.25至–43.02 mV)。γ-CD既充当原位还原剂,又诱导缺陷形成,从而产生了丰富的缺陷氧物种,并部分使金属氧化物晶格非晶化,有效调节了材料的能带结构。因此,γ-MoWO3?x对亚甲蓝的吸附和光催化降解能力提高了3.09倍,在1太阳光照射下40分钟内即可实现超过98%的去除率。机理研究表明,该材料主要通过空穴途径进行氧化。纳秒瞬态吸收光谱显示γ-MoWO3?x积累了更多的光生空穴,并且快速空穴衰减组分占比较高,这表明其表面可利用的空穴数量较多,从而增强了氧化反应性。光致发光猝灭和电化学阻抗谱进一步表明载流子复合现象得到抑制,电荷迁移率也有所提高。总体而言,这项工作提出了一种简单且可扩展的环状寡糖介导的方法,用于同时实现缺陷工程和界面工程,为下一代光催化剂的研发提供了宝贵的设计思路。