摘要
本研究探讨了在常压介质阻挡放电(DBD)条件下,使用含有约150 ppm HMDSO的He/HMDSO混合物时,六甲基二硅氧烷[HMDSO, (CH3)3SiOSi(CH3)3]的等离子体辅助分解和气相聚合过程。通过高分辨率分子束质谱技术分析了等离子体生成的物种,从而能够详细识别反应中间体和低聚产物。等离子体功率在0.5至15 W之间变化,以研究其对碎片化和聚集动力学的影响。功率的增加显著促进了更高质量物种的形成,观察到C2H6SiO (CH3SiOCH3)单元的质量增加了74.019 amu。这些观察结果表明,存在逐步的气相聚集过程,形成了聚二甲基硅氧烷(PDMS)的基本构建单元。在较低功率下,质量增长受到抑制,而含有硅的小片段(如SiH3O、CH5Si)和碳氢基团(CH、CH2、CH3、C2H5)占主导地位。在较高功率下,主要检测到稳定的碳氢化合物(如CH4、C2H2、C2H4和C2H6),这反映了碎片化和重组途径的增强。一个包含二甲基氧硅烷(CH3SiOCH3)简化四步聚合序列的化学动力学模型,能够再现实验观察到的低聚物增长趋势。实验与建模相结合的方法,为常压条件下等离子体诱导的前体重构和PDMS形成的早期阶段提供了机制上的见解。
利益冲突
作者声明没有利益冲突。
数据可用性声明
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