混合聚合物空穴传输层增强金阳极顶部发射钙钛矿发光二极管

《Advanced Science》:Mixed-Polymer Hole Transport Layers Reinforce Au-Anode Top Emitting Perovskite Light Emitting Diodes

【字体: 时间:2026年06月12日 来源:Advanced Science 14.1

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  随着金属卤化物钙钛矿发光二极管(PeLEDs)性能的快速提升,识别并解决限制工作稳定性的因素至关重要。钙钛矿作为界面电化学副产物释放的化合物可与各种LED层反应并损害其性能,尤其是腐蚀和降解金属阳极。在本研究中,研究人员使用混合聚合物空穴传输层(由聚(N,N'

  
随着金属卤化物钙钛矿发光二极管(PeLEDs)性能的快速提升,识别并解决限制工作稳定性的因素至关重要。钙钛矿作为界面电化学副产物释放的化合物可与各种LED层反应并损害其性能,尤其是腐蚀和降解金属阳极。在本研究中,研究人员使用混合聚合物空穴传输层(由聚(N,N'-双-4-丁基苯基-N,N'-双苯基)联苯胺(polyTPD)和聚(9-乙烯基咔唑)(PVK)的混合物)来稳定基于甲基铵铅碘化物的、具有金金属阳极的PeLEDs,防止其在重复操作下漏电流增加以及在恒定驱动下发射强度下降。研究人员使用新开发的基于金腐蚀的三碘化物检测实验来研究该层,确定该混合空穴传输层干扰并抑制三碘化物传输,从而实现更稳定的工作。
**论文解读:混合聚合物空穴传输层增强金阳极顶部发射钙钛矿发光二极管**

**研究背景与问题**
金属卤化物钙钛矿发光二极管(PeLEDs)因其高色纯度、可调谐性及低成本潜力,已成为下一代发光二极管的研究热点,其外量子效率(EQE)已超过20%。然而,商业化应用面临稳定性挑战,尤其是在持续电驱动下,钙钛矿释放的活性卤素物种(如碘单质I2、碘离子I-及三碘化物I3-)会腐蚀金属电极,导致漏电流增加、发光强度衰减甚至器件短路。顶部发射PeLEDs因采用金属反射阳极以避免基底光损耗,但该结构使阳极更易受卤化物腐蚀。金(Au)虽化学惰性较高,但仍能被碘物种氧化形成可迁移的Au+,破坏钙钛矿层和电荷平衡。因此,开发能抑制卤化物传输并保护Au阳极的空穴传输层(HTL)对提升顶部发射PeLEDs稳定性至关重要。

**研究内容与结论**
研究人员针对顶部发射PeLEDs中Au阳极腐蚀导致的性能不稳定性,提出使用混合聚合物HTL(聚(N,N'-双-4-丁基苯基-N,N'-双苯基)联苯胺(polyTPD)和聚(9-乙烯基咔唑)(PVK)的混合物)来抑制三碘化物传输。实验表明,该混合HTL在保持高效空穴注入的同时,显著降低了重复操作下的漏电流,并在恒定电流驱动下将发光强度维持在初始值的96%以上超过60秒。通过紫外光电子能谱(UPS)、紫外-可见吸收光谱(UV-Vis)、原子力显微镜(AFM)等表征,研究人员发现混合HTL表面主要由polyTPD组成,确保钙钛矿结晶质量和空穴注入;而PVK分散于体相中,阻碍碘物种传输。进一步,研究人员利用扫描电子显微镜(SEM)、能量色散X射线光谱(EDX)和X射线光电子能谱(XPS)直接观察到电压偏置下Au从阳极迁移至阴极,且混合HTL显著降低了Au的累积速率并提高了迁移起始电压。此外,研究人员开发了一种基于Au熔丝的腐蚀检测实验,证实混合HTL通过抑制三碘化物形成来延缓Au腐蚀。该研究为提升顶部发射PeLEDs稳定性提供了简单有效的策略,相关成果发表在《Advanced Science》。

**主要技术方法**
研究人员采用溶液旋涂法制备混合聚合物HTL(polyTPD与PVK共溶于氯苯,质量比约6:0.4 mg/mL),随后在150°C退火形成均匀薄膜。为评估Au迁移,构建了ITO/MAPbI3/HTL/Au半器件结构,在不同偏压(0–1.8 V)下施加2小时,剥离Au电极后利用SEM、EDX和XPS分析ITO阴极表面Au的分布。为直接检测三碘化物腐蚀,设计了Au熔丝测试:在玻璃基底上制备35 nm厚的Au熔丝,覆盖不同HTL层,暴露于饱和I2气氛中,通过监测熔丝电导率变化评估HTL对三碘化物腐蚀的抑制能力。同时,测量HTL薄膜在I2气氛下的电导率变化以表征碘掺杂行为。所有表征均在室温下进行。

**研究结果**

**1. 顶部发射PeLEDs的降解特征**
纯polyTPD HTL的顶部发射PeLEDs在重复电压扫描下漏电流迅速增加,最初表现为离散尖峰,随后发展为持续高漏电流;在恒定电流密度(5 mA cm-2)驱动下,发光强度在50秒内下降15%–25%。这些现象在底部发射PeLEDs(使用ITO阳极)中未出现,表明Au阳极与碘物种的化学反应是降解主因。

**2. 混合聚合物HTL的稳定效果**
在polyTPD中加入少量PVK(0.4:6 mg/mL)后,混合HTL器件在重复操作中漏电流被显著抑制(5次扫描后仍保持极低水平),且在20 mA cm-2恒定电流下发光强度在60秒内维持96%以上。不同PVK比例(0.2–1.0 mg/mL)的混合HTL均展现出稳定性提升,且J-V-L性能与纯polyTPD器件相近,表明空穴注入未受影响。

**3. 混合HTL的表征**
UPS(He II辐射)显示,混合HTL的表面态密度与纯polyTPD一致,无PVK特征峰;He I UPS测得的HOMO能级(0.7 eV低于费米能级EF)和电离能(5.1 eV)均与polyTPD相同,表明PVK未富集于表面。UV-Vis吸收光谱中,混合膜在250–350 nm处出现PVK特征肩峰,且随PVK含量增加而增强,证实PVK分散于体相和/或埋藏界面。AFM显示所有薄膜粗糙度低于1 nm,无针孔。

**4. Au迁移的直接证据**
半器件(ITO/MAPbI3/HTL/Au)在0 V无偏压下,ITO阴极未检测到Au;在1.2 V时,纯polyTPD组开始出现Au岛状沉积,混合HTL组无变化;1.5 V和1.8 V时两组均出现Au沉积,但混合HTL组密度更低。XPS定量显示,相同偏压下混合HTL组的Au原子百分比仅为纯polyTPD组的约60%,且Au迁移起始电压从1.2 V提高至1.5 V以上。

**5. 三碘化物腐蚀的Au熔丝测试**
在饱和I2气氛中,纯polyTPD包覆的Au熔丝电导率在1小时内显著下降(腐蚀);纯PVK和无HTL对照组电导率基本恒定;混合HTL(0.4 PVK)表现出轻微下降或不降。电导率测试显示,纯polyTPD薄膜在I2暴露下电导率升高一个数量级,而混合HTL的增幅低一个数量级,表明PVK抑制了碘的掺杂和传输。

**总结与讨论**
研究结论指出:混合聚合物HTL通过PVK的深HOMO能级(5.8 eV)抑制polyTPD层中碘的还原与三碘化物形成,从而减少Au阳极的腐蚀。该HTL制备工艺简单(单步旋涂),避免了双层溶液加工中的溶剂正交问题。研究人员首次开发了基于Au熔丝的三碘化物腐蚀定量测试方法,可推广至其他HTL材料筛选。未来可进一步优化PVK含量和HOMO能级以延长金属阳极寿命。

原文结论翻译:
根据研究结果,研究人员得出结论:混合聚合物HTL中少量深HOMO能级材料PVK的存在减少了碘传输和三碘化物形成。该HTL制备涉及简单的单步旋涂和退火工艺,避免了双层溶液加工HTL的困难。通过UPS和接触角测量,研究人员证实该层表面以polyTPD为主,维持了高质量的钙钛矿生长和空穴注入。在半器件中检测到Au在阴极的累积,该迁移需要非零电偏压,且混合层相比纯polyTPD降低了Au累积速率,同时提高了迁移起始电压。Au腐蚀测试显示,PVK的存在减缓了polyTPD膜中三碘化物的形成,并将电极寿命延长至1小时以上。此外,电导率测试表明,PVK降低了薄膜在饱和气体气氛中对碘诱导掺杂的敏感性。因此,MAPbI3 LEDs中观察到的稳定性改善可合理归因于HTL类似地抑制了来自发射层的固态碘传输,从而减少了Au阳极的卤化物腐蚀。此外,研究人员首次提出了量化阳极三碘化物腐蚀的实验测试,该方法可推广至未来HTL优化。未来工作可利用Au腐蚀测试识别更长效的碘排斥HTL薄膜,并更好地确定HOMO能级和添加聚合物数量如何影响PeLEDs中金属阳极的寿命。
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