电荷转移介导的硼磁离子学:面向电压驱动的多离子输运

《Advanced Science》:Charge-Transfer-Mediated Boron Magneto-Ionics: Towards Voltage-Driven Multi-Ion Transport

【字体: 时间:2026年07月13日 来源:Advanced Science 14.1

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  通过磁离子学(magneto-ionics)对磁性进行电压控制,其中离子输运和/或氧化还原过程驱动磁调制,为下一代存储器和计算带来了巨大前景。这源于其非易失性以及以潜在节能的方式精确调控磁性能幅度和速度的能力。然而,将磁离子学扩展到包含新型移动离子甚至多种离子

  
通过磁离子学(magneto-ionics)对磁性进行电压控制,其中离子输运和/或氧化还原过程驱动磁调制,为下一代存储器和计算带来了巨大前景。这源于其非易失性以及以潜在节能的方式精确调控磁性能幅度和速度的能力。然而,将磁离子学扩展到包含新型移动离子甚至多种离子物种对于解锁新现象和实现多功能能力至关重要。在此,研究人员展示了在氧含量增加的FeBO体系中,电压驱动的多离子输运,从类静电响应逐渐过渡到更显著的电化学(磁离子学)行为。B和Fe的电压驱动输运通过氧化态调控被激活,这是由于氧具有更大的电负性。这种电荷转移效应允许多离子磁离子学,其中O离子与Fe和B离子反向移动。这些结果通过电荷转移工程利用具有不同电子亲和力的元素,为可编程功能铺平了道路。
**论文解读:电荷转移介导的硼磁离子学——迈向电压驱动多离子输运**

**研究背景与问题**

磁离子学(magneto-ionics)通过电压驱动离子迁移和氧化还原过程调控磁性,凭借其非易失性和能量效率优势,成为下一代存储器和计算器件的关键候选技术。然而,现有磁离子学系统主要依赖单一离子(如H+、Li+、O2–、F、N3–等)的操纵,尽管已实现双离子迁移,但扩展至多离子种类仍面临挑战。多离子输运可引入额外自由度,实现更灵活且可解耦的磁态工程,从而提升功能可调性。为此,研究人员旨在探索一种新型多离子磁离子体系,利用元素电负性差异通过电荷转移工程实现电压驱动的多离子协同迁移,以突破单一离子调控的局限。

**研究内容与意义**

本研究首次在FeBO体系中实现了电压驱动的B、Fe和O多离子输运。通过调控氧含量,系统从类静电响应过渡到显著的电化学磁离子行为。其中,B的氧化态经氧掺入被调至中间水平,从而激活其电压驱动迁移;O离子与Fe、B离子反向移动,导致非易失性磁化增强。该发现为设计可编程多功能磁离子器件提供了新路径,论文发表于《Advanced Science》。

**关键技术方法**

研究人员采用DC磁控溅射在Si(100)衬底上依次沉积Ti(15 nm)、Au(50 nm)、Ta(10 nm)缓冲层,随后生长50 nm FeBO薄膜,并通过改变溅射气氛中O2/Ar比(0%、2%、5%)调控氧含量,分别记为FeB、FeBO(2% O2)、FeBO(5% O2)。关键表征技术包括:振动样品磁强计(VSM)进行磁电测量;弹性反冲检测分析(TOF-E ERD)定量元素深度分布;X射线吸收光谱(XAS)分析B和Fe的电子态;高分辨透射电镜(HRTEM)及扫描透射电镜与电子能量损失谱(STEM-EELS)观察微观结构;变能量正电子湮没寿命谱(VEPALS)表征缺陷类型与浓度。

**研究结果**

**1. 电压控制FeB和FeBO基异质结构中的磁性**

通过电解质门控施加-50 V电压,FeBO(2% O2)样品的饱和磁化强度(MS)永久性增加,显示非易失性磁离子行为;而FeB样品的MS仅微弱可逆增加,呈现类静电响应。磁滞回线表明,FeBO(2% O2)在门控后矫顽力(HC)增大,与典型氧化物体系相反,暗示B在其中起关键作用。对比FeO(2% O2)控制样品,发现其矫顽力降低,验证了B对异常磁电响应的贡献。

**2. 通过TOF-E ERD和XAS的成分表征**

TOF-E ERD深度谱显示,FeB样品中B和Fe无显著迁移;而FeBO(2% O2)中Fe和B均向底部Au电极方向迁移,表明其阳离子特性。随门控时间增加(10、30、60 min),B的迁移距离逐渐增大,60 min时出现明显再分布。XAS分析表明,随氧含量增加,B K边吸收峰向高能移动,指示氧化态升高;Fe L2,3边出现新肩峰,表明Fe也发生氧化。B的迁移仅发生在中间氧化态窗口(|ΔE|≈0.7 eV),过低的氧化态(FeB)或过高的氧化态(FeBO 5% O2,接近B2O3)均抑制迁移。

**3. 微观结构和成分表征**

TEM和STEM-EELS显示,门控后FeBO(2% O2)顶层氧化层厚度加倍(5 nm增至10 nm)且Fe耗尽,证实O离子向上迁移。高分辨图像和快速傅里叶变换(FFT)表明,门控使薄膜非晶化程度增加,衍射斑点消失,仅剩弥散环。

**4. 缺陷表征**

VEPALS测量表明,FeBO(2% O2)中主要缺陷为小空位团簇(τ1),门控后其相对强度(I1)增加超过5%,表明缺陷密度升高。这种结构无序增强域壁钉扎和磁各向异性梯度,导致矫顽力增大。

**总结与结论**

研究人员首次在FeBO体系中实现了电压驱动的B与Fe、O多离子协同迁移。氧含量调控是关键:低氧含量导致电阻率低、磁离子效应弱;高氧含量形成稳定B2O3限制B迁移;只有中间氧含量激活B的氧化态窗口,实现多离子输运。电压诱导的多离子运动还导致非晶化程度增加,从而提升矫顽力。这些发现为通过电荷转移工程利用不同电子亲和力元素设计多离子操纵提供了途径,有望扩展磁离子学在电子学及硼中子俘获治疗等领域的应用。
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