摘要
磁流变抛光技术作为一种具有灵活性、可控性且表面损伤极小的精密加工方法，已成为超精密抛光领域中最具前景的技术之一。本综述系统总结了磁流变抛光技术在抛光液制备与流变特性、材料去除机制与理论模型、设备与工艺的分类优化、多能量场混合技术以及智能化发展等方面的研究进展。首先，从磁流变抛光液的成分、非线性流变模型及稳定性优化入手，阐明了流体特性对抛光效果的决定性影响。其次，分析了宏观机械去除机制与原子级材料去除机制，并回顾了材料去除函数与抛光力模型的建立与发展。再次，根据工具形态对磁流变抛光设备进行了系统分类，同时探讨了超声辅助、电化学辅助和激光辅助等先进的混合抛光技术。此外，还深入分析了关键工艺参数、磁场配置优化以及停留时间算法对加工精度与效率的影响。最后，总结了磁流变抛光技术在航空航天、生物医学、光电子信息等领域的典型应用，指出了当前存在的技术瓶颈，并展望了该技术向智能化、绿色化及标准化发展的未来趋势。本综述旨在为磁流变抛光领域的研究人员提供全面的理论参考和技术指导，推动该技术在精密制造领域的进一步应用与发展。
