光信号蕴含着关于周围环境的丰富信息,是边缘系统实现智能感知的主要输入方式[[1], [2], [3]]。因此,光电子神经形态器件能够在器件层面直接处理光信息,为分布式感知和传感器内计算提供紧凑且节能的硬件平台[[4], [5], [6], [7], [8]]。要实际应用这类器件,还必须在恶劣环境条件下保持稳定运行。尤其是在航空航天电子、深井钻探、火灾监测以及工业传感等领域的高温环境下,对器件的稳定性及功能保持能力有着极高要求[[9], [10], [11]]。开发高温光电子神经形态器件的核心挑战不仅在于维持结构完整性,更在于在高温环境下保持其功能性的突触响应,因为在这种条件下,器件性能往往会下降,且可塑性也会丧失。与此同时,为了确保可靠的光信号处理,还必须保持对可见光的有效吸收以及稳定的光电子耦合能力[[12], [13], [14], [15], [16], [17], [18]]。如何在高温环境保持稳定性、持续的光电子响应以及功能性突触行为之间取得平衡,仍是制约实用光电子神经形态器件发展的关键问题[[19], [20], [21], [22]]。
为缓解高温环境下神经形态器件性能的下降,人们已经探索了多种器件设计策略,包括异质结构通道设计[23,24]、电解质栅极晶体管[25,26]、浮栅架构[27,28]以及缺陷工程化介质[29,30]。例如,异质结构通道能够在保持良好热稳定性的同时拓宽滞后窗口。无机固态电解质和衬底工程化技术则利用高温下更高的离子迁移率来提升静电调控效果以及开关比[31,32],而浮栅以及电解质/离子液体栅极结构则通过电容或离子耦合效应增强突触调控能力。尽管取得了这些进展,但目前仍缺乏能够在约125℃以上同时具备优异光学响应、可靠的突触可塑性以及稳定运行能力的光电子突触器件[[9], [10], [11],[31], [32], [33], [34]]。如补充表S1所示,许多已报道的器件并不具备温度可调的光电特性。在各类设计方案中,基于氧化物的突触器件尤为具有优势,这是因为氧化物介质本身具备良好的热稳定性,且与CMOS加工工艺高度兼容[[35], [36], [37], [38]]。重要的是,通道与氧化物缺陷之间的载流子交换是由热激活过程控制的,这表明升高温度反而可能增强突触动态特性,而非降低器件性能[[39], [40], [41], [42]]。虽然基于氧化物的电学突触行为已被广泛研究,但其在高温条件下实现稳定且增强的光电子突触功能的潜力仍有待进一步探索。
在本研究中,我们设计并系统研究了一种背栅式范德瓦尔斯光晶体管,其通道由机械剥离得到的少层MoS2构成,介质则为Al2O3。选择这种结构的原因是,底栅结构更便于研究器件性能随温度的变化规律。由于MoS2具备宽波段的光吸收特性,且Al2O3/MoS2界面具有热稳定性且含有大量陷阱,该器件为研究神经形态晶体管中的光-电-热耦合效应提供了理想的平台。我们从室温到200℃范围内对这类器件的电学突触行为进行了表征,发现高温下其有效的电荷捕获能力有所增强。在450–690纳米范围的可见光照射下,该器件表现出显著的后突触持续光电导现象,且在130℃时的兴奋性后突触电流相比室温时增加了约400%。这一增强效应在不同光刺激条件下均存在,可归因于氧化物介质中电荷捕获与释放过程的温度增强作用。通过利用波长依赖性的光响应特性,我们仅需两个独立的光脉冲作为突触前输入,即可实现多种突触学习行为,包括成对脉冲强化效应和时序依赖性可塑性。此外,由于温度增强了光电子耦合效应,该器件在130℃时还能实现更高层次的神经形态功能,比如光编程逻辑运算、巴甫洛夫式关联学习以及基于人工神经网络的形象识别。本研究的最主要创新之处在于,它首次系统研究了温度如何影响基于MoS2的突触晶体管的电电子神经形态行为。这些结果充分展现了基于氧化物的MoS2光电子突触器件在高温环境下的集成感知、存储及计算应用潜力。