摘要
将铁磁序与电子拓扑结构结合在一种二维材料中,有望为下一代高速、超低损耗信息技术带来革命性变化,但目前仍面临诸多挑战。本文通过半替代策略,提出FeNbX2(X = Se/Te)单层材料作为一种铁磁半导体,它具有高达107 meV的非平凡拓扑能隙以及较高的切尔数
利益冲突声明
作者声明不存在任何利益冲突。
数据可用性说明
本研究的相关数据可在合理请求下从通讯作者处获取。
室温下具有多重电子相变的二维拓扑铁磁半导体
《Advanced Functional Materials》:Room-Temperature 2D Topological Ferrimagnetic Semiconductors With Multiple Electronic Phase Transitions
【字体: 大 中 小 】 时间:2026年07月19日 来源:Advanced Functional Materials 19.9
编辑推荐:
摘要 将铁磁序与电子拓扑结构结合在一种二维材料中,有望为下一代高速、超低损耗信息技术带来革命性变化,但目前仍面临诸多挑战。本文通过半替代策略,提出FeNbX2(X = Se/Te)单层材料作为一种铁磁半导体
将铁磁序与电子拓扑结构结合在一种二维材料中,有望为下一代高速、超低损耗信息技术带来革命性变化,但目前仍面临诸多挑战。本文通过半替代策略,提出FeNbX2(X = Se/Te)单层材料作为一种铁磁半导体,它具有高达107 meV的非平凡拓扑能隙以及较高的切尔数
作者声明不存在任何利益冲突。
本研究的相关数据可在合理请求下从通讯作者处获取。