基于膦酸的铜铝双金属钝化处理,用于抗腐蚀的键合线互连结构

《Coatings》:Phosphonic Acid-Derived Dual-Metal Passivation of Cu and Al for Corrosion-Resistant Wire-Bonded Interconnects

【字体: 时间:2026年07月19日 来源:Coatings 3.4

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   摘要 在微电

  

摘要

在微电子封装中,铜铝(Cu-Al)引线键合器件被广泛使用;然而,在潮湿且含有卤素的环境中,暴露在外的铜铝双金属界面容易发生腐蚀,从而导致铝垫层老化、下陷,最终引发球形键合点脱落或开路故障。本研究提出了一种可大规模应用的引线键合后湿化学钝化工艺,采用十八烷基膦酸(ODPA)同时处理暴露的铜/钯涂层铜(PCC)表面以及铝表面。该钝化工艺首先通过羟基化预处理在表面生成活性氧化物/氢氧化物,然后再用ODPA处理并经过溶剂冲洗以去除弱吸附物质。通过接触角测量、反射-吸收红外光谱(RAIRS)、原子力显微镜(AFM)以及X射线光电子能谱(XPS)对表面改性效果进行了评估。ODPA处理提高了铜和铝的水接触角,表明涂层形成后表面的疏水性显著增强。RAIRS检测到了与ODPA相关的脂肪族C-H键,AFM显示处理导致了纳米级的表面变化,而XPS则证实了金属-氧-磷界面之间的结合。在100 ppm氯离子的恶劣浸泡环境下,ODPA钝化处理有效抑制了两种器件平台上的球形键合点脱落现象:铜铝器件的脱落率从99.0%降至0.73%,而PCC-铝器件的脱落率则从23.3%降至0.42%。总体而言,这些研究结果为一种有效的、与现有工艺兼容的引线键合后处理方法提供了依据,该方法能够有效保护易受腐蚀的界面,从而提升含卤素环境中的引线键合互连器的可靠性。
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