《Child's Nervous System》:Complication profile of two surgical techniques, neurosurgical experience, and operative setting for pediatric external ventricular drainage implantation
编辑推荐:
摘要目的:脑室外引流(EVD)插入术是治疗急性脑积水的标准手术,但也伴随着显著风险。这项回顾性研究比较了研究人员诊所常规使用的两种手术技术,并分析了神经外科医生经验和手术环境对儿童人群并发症发生率的影响。方法:研究人群根据用于进入脑室系统的手术方式分为两组:B
摘要目的:脑室外引流(EVD)插入术是治疗急性脑积水的标准手术,但也伴随着显著风险。这项回顾性研究比较了研究人员诊所常规使用的两种手术技术,并分析了神经外科医生经验和手术环境对儿童人群并发症发生率的影响。方法:研究人群根据用于进入脑室系统的手术方式分为两组:BoltKit系统(BS)或引流管隧道(DT)。统计分析平衡了年龄、性别、引流部位和侧别、神经外科经验(即初级外科医生(JS)或高级外科医生(SS))以及手术环境(即重症监护室(ICU)或手术室(OP))与并发症(如脑脊液感染、多次插入尝试(MIA)、位置不当、修正和出血)之间的关系。结果:这项回顾性研究纳入101例患者(62例男性,39例女性,平均年龄7.1岁):79例接受DT治疗,22例接受BS治疗。总体而言,81个EVD放置于额部,18个放置于枕部,68个位于右侧,25个位于左侧;发生22例修正(22%)、13例感染(13%)、11例MIA(11%)、10例位置不当(10%)和4例出血(4%)。BS组的MIA、位置不当和修正显著多于DT组(p = 0.012,p = 0.038,p = 0.020)。修正也在ICU组多于OP组(p = 0.002),以及JS组多于SS组(p = 0.018)。感染与额部导管放置显著相关(p = 0.018),但与手术技术无关。在多变量模型中,DT和SS均独立降低MIA风险,而ICU环境独立预测修正需求。结论:在儿童中,DT的并发症少于BS。手术经验和手术环境均显著影响结局,强调了在儿童EVD放置中仔细选择技术和监督的重要性。
脑积水(hydrocephalus)是一种因脑脊液(CSF)循环障碍导致脑室异常扩张的常见疾病,急性脑积水需及时治疗以改善神经预后。脑室外引流(EVD)植入术是处理急性脑积水的标准临时措施,但该操作伴有显著风险,包括导管位置不当、出血、脱位及脑脊液感染。尽管已有针对成人人群的研究比较了不同手术技术(如BoltKit系统(BS)与引流管隧道(DT))的并发症,但针对儿童人群的专门比较分析尚缺乏。为此,研究人员开展了一项单中心回顾性研究,旨在比较两种常用手术技术(BS与DT)的并发症谱,并分析神经外科医生经验(初级外科医生(JS)与高级外科医生(SS))及手术环境(重症监护室(ICU)与手术室(OP))对儿童EVD植入术后早期并发症的影响。该研究纳入2018年1月至2024年1月期间101例急性脑积水患儿(男62例,女39例,平均年龄7.1岁),其中79例接受DT治疗,22例接受BS治疗。研究结论表明,在儿童中,DT技术相比BS技术具有更低的多次插入尝试(MIA)、位置不当和修正风险;手术经验与环境因素亦显著影响结局,突显了在儿童EVD植入中审慎选择技术并加强监督的重要性。该研究论文发表于《Child's Nervous System》。
主要关键技术方法包括:样本队列来源于2018年1月至2024年1月期间德国雷根斯堡大学附属医院神经外科收治的101例急性脑积水患儿(男62例,女39例,平均年龄7.1岁)。研究根据手术方式将患者分为两组:BS组(使用BoltKit系统,22例)和DT组(使用引流管隧道技术,79例)。数据收集自电子病历及影像报告,包括年龄、性别、引流部位(额/枕)和侧别(左/右)、并发症(修正、MIA、位置不当、出血、脑脊液感染)、手术者经验(JS vs. SS)及手术环境(ICU vs. OP)。统计分析采用描述性统计、双变量比较(Fisher精确检验或卡方检验)、单变量及多变量Logistic回归模型(校正年龄、性别),并利用Kaplan-Meier方法分析无修正生存时间。所有患者均使用抗生素浸渍导管。
研究结果部分如下:
- **Population characteristics**:研究人群包括101例患者,DT组79例,BS组22例。81个EVD置于额部,18个置于枕部,68个右侧,25个左侧;总体并发症发生率:修正22例(22%)、感染13例(13%)、MIA 11例(11%)、位置不当10例(10%)、出血4例(4%)。通过双变量分析,BS组MIA、位置不当和修正率显著高于DT组(p=0.012, p=0.038, p=0.020)。修正率在ICU组高于OP组(p=0.002),JS组高于SS组(p=0.018)。感染与额部导管放置显著相关(p=0.018),但与手术技术无关。
- **Impact of demographics and catheter location**:年龄、性别对MIA、位置不当、出血、修正无显著影响。导管放置部位(额/枕)和侧别(左/右)与并发症无显著关联。在感染亚组分析(n=87)中,额部放置的感染率(14.5%)显著高于枕部(6.2%)(p=0.018),但侧别无显著差异(p=0.101)。
- **Impact of surgical techniques**:BS组MIA发生率27.3%,DT组6.3%(p=0.012);BS组位置不当22.7%,DT组6.3%(p=0.038);BS组修正率40.9%,DT组16.5%(p=0.020)。Kaplan-Meier分析显示DT组平均无修正生存时间12.44天,BS组9.41天,DT组显著优于BS组(p=0.008)。出血率在BS组(9.1%)与DT组(2.5%)之间无统计学差异(p=0.206)。感染率在BS组(26.5%)与DT组(11.8%)之间无显著差异(p=0.147)。
- **Impact of surgeon experience**:JS组MIA发生率25.0%,SS组5.5%(p=0.009);JS组修正率39.3%,SS组15.1%(p=0.018)。位置不当(17.9% vs. 6.8%)和出血(7.1% vs. 2.7%)在JS组更高,但差异不显著(p=0.199, p=0.307)。JS组使用BS技术比例(46.4%)显著高于SS组(12.3%)(p<0.001)。感染率在JS组(20.0%)与SS组(12.9%)之间无显著差异(p=0.508)。
- **Impact of operative setting**:ICU组修正率63.6%,OP组16.7%(p=0.002);ICU组位置不当趋势更高(27.3% vs. 7.8%,p=0.076)。MIA和出血无显著差异。BS技术用于ICU的比例(90.0%)显著高于OP(19.6%)(p<0.0001)。感染率在ICU组(36.4%)与OP组(11.8%)之间趋势显著但未达统计学意义(p=0.056)。
- **Multivariable models**:对于MIA,DT技术(OR 0.044, 95% CI 0.004-0.339, p=0.005)和SS经验(OR 0.066, 95% CI 0.008-0.381, p=0.005)为独立保护因素,年龄较大亦降低风险(OR 0.820, 95% CI 0.653-0.980, p=0.047)。对于位置不当,DT技术显示保护趋势但未达显著(OR 0.122, 95% CI 0.011-1.222, p=0.067),SS经验呈边界性保护(OR 0.144, 95% CI 0.016-0.982, p=0.056)。对于修正,ICU环境是唯一独立风险预测因子(OR 8.966, 95% CI 1.287-80.489, p=0.034)。对于出血和感染,所有预测因子均未达统计学显著性。
讨论部分总结:研究提示儿童EVD植入中,DT技术安全性优于BS技术,与成人数据相反。BS技术较高的MIA、位置不当和修正率可能与儿童颅骨解剖特点及技术操作难度有关。手术经验影响显著,但JS更多使用BS技术,造成混杂,多变量分析仍显示技术和经验各自独立影响。ICU环境独立预测修正风险,可能与危重患者本身状态及操作条件有关。感染方面,额部导管放置与感染相关,但多变量调整后不显著,提示样本量限制。研究局限性包括单中心设计、样本量较小、非随机分组及短随访期。
研究结论翻译:在儿童患者中,使用DT技术进行EVD植入术显示出更高的安全性,其MIA、位置不当和修正的风险低于BS技术。手术经验和手术环境亦影响结局,这强调了选择合适技术并考虑手术环境以最小化并发症的重要性。