《Materials & Design》:Interdiffusion-suppressing glassy medium-entropy alloy for stable skutterudite thermoelectric single legs
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抑制互扩散的玻璃态中熵合金(MEA)用于稳定的方钴矿热电单腿。相工程实现了玻璃态Ti–Al–Ni–Cr MEA扩散阻挡层。玻璃态MEA抑制了CoSb3界面的晶界扩散。MEA在623?K热端连接处阻止了金属间化合物的形成。MEA涂覆的CoS
抑制互扩散的玻璃态中熵合金(MEA)用于稳定的方钴矿热电单腿。相工程实现了玻璃态Ti–Al–Ni–Cr MEA扩散阻挡层。玻璃态MEA抑制了CoSb3界面的晶界扩散。MEA在623?K热端连接处阻止了金属间化合物的形成。MEA涂覆的CoSb3单腿在ΔT?=?350?K时实现了4.2%的效率。MEA阻挡层提高了循环稳定性,降低了寄生损耗。
热电能量转换技术(Thermoelectric,TE)的发展长期聚焦于材料本征性能提升,特别是热电优值(zT = S
2σ/κ,其中S为塞贝克系数,σ为电导率,κ为热导率)的优化,然而器件层面的界面稳定性、扩散控制及性能可重复性等关键问题研究相对不足。在TE模块中,热电腿与电极构成三明治结构,异质界面在电热耦合梯度下主导长期可靠性。常规多晶Ni基扩散阻挡层在中温条件下易与CoSb
3(方钴矿)发生晶界扩散和晶格扩散,形成脆性且高电阻的NiTe金属间化合物,导致机械完整性下降和功率输出衰减。为此,研究人员基于相图工程,设计了一种富Ti的Ti–Al–Ni–Cr中熵合金(Medium-Entropy Alloy,MEA),通过磁控溅射制备玻璃态薄膜,作为CoSb
3热电单腿的扩散阻挡层。该研究通过相图实验确定β-Ti单相区,并利用非平衡溅射获得玻璃态MEA薄膜。与Ni阻挡层对比,玻璃态MEA有效抑制了CoSb
3界面的晶界快速扩散,限制传输为缓慢的体扩散,从而避免Ni团聚和金属间化合物形成。在单腿器件层面,MEA涂覆的In
1.2CoSb
3单腿在温差ΔT = 350?K时实现4.2%的转换效率,且循环稳定性显著优于无阻挡层样品。界面分析表明,MEA涂覆的热端接头保持Cu/焊料/MEA/In
1.2的清晰层状结构,无金属间化合物生成。该研究发表于《Materials》期刊,为高温耐久热电模块提供了可扩展的界面稳定化策略。
**关键技术与方法**
研究人员通过相图工程确定Ti–Al–Ni–Cr四元系在1273?K下的β-Ti单相区,选定Ti
70Al
10Ni
5Cr
15(合金#1)作为靶材成分。采用磁控溅射法,以Ti
75Al
7Cr
18合金靶和Ni靶共溅射,在In掺杂CoSb
3基底上沉积厚度约1.2?μm的MEA薄膜。利用同步辐射纳米X射线荧光(nano-XRF)和透射电子显微镜(TEM)表征界面扩散行为与微观结构。单腿器件转换效率采用Mini-PEM系统(Advanced Riko,日本)测量,冷端温度保持298?K,热端温度在353?K至648?K之间变化。
**研究结果**
**1. 相图工程与MEA成分设计**
通过实验测定1273?K下Ti–Al–Ni–Cr四元系等温截面(Ti含量固定为70 at.%),发现β-Ti单相区。选定Ti
70Al
10Ni
5Cr
15作为代表性成分,Laue衍射确认其具有单相BCC β-Ti结构,XRF映射显示元素均匀分布。该相图指导了后续薄膜沉积的成分空间。
**2. 玻璃态MEA薄膜的微观结构**
磁控溅射制备的MEA薄膜厚度约1.2?μm,背散射电子像显示连续界面无分层或空洞。TEM明场像和相应快速傅里叶变换(FFT)图案呈现非晶态特征,表明薄膜为玻璃态结构,与平衡态BCC β-Ti不同。该非晶态抑制了快速晶界扩散。
**3. In-CoSb
3的热电输运性质**
研究了三种In掺杂组分(In
0.3CoSb
3、In
1.2CoSb
3、In
1.4CoSb
3)在300–650?K范围内的输运性质。电导率σ随温度升高单调下降,塞贝克系数S始终为负(n型导电),功率因子(PF = σS
2)在In
1.2时最高。热导率κ随In含量增加而降低,归因于填充位对声子散射增强。In
1.2CoSb
3在623?K时峰值zT达0.95,平均zT
ave(323–623?K)为0.58,与文献报道值相当。
**4. Ni和MEA界面扩散行为对比**
将Ni/In
1.2和MEA/In
1.2反应偶在773?K分别退火70?h和140?h,通过同步辐射XRF映射分析元素分布。Ni/In
1.2界面在退火后发生严重互扩散,Ni形成条带状杂质或团簇;而MEA/In
1.2界面保持清晰,各元素均匀分布,Ni扩散距离有限且无显著团聚。Ti和Cr扩散缓慢,Al呈现均匀体扩散特征。该结果表明玻璃态MEA通过限制晶界扩散,将传输路径主要限制为体扩散,从而抑制了Ni团聚和金属间化合物形成。
**5. 单腿器件转换效率与稳定性**
制备了MEA涂覆和未涂覆的In
1.2CoSb
3单腿器件,在ΔT = 50–350?K范围内测量输出功率P和热流Q。MEA涂覆器件在ΔT = 350?K时最大输出功率P
max ≈ 81.5?mW,略高于未涂覆器件(78.8?mW);热流Q降低约4.7%。转换效率η = P/(P+Q) 计算显示,MEA涂覆器件在ΔT = 350?K时达4.2%,未涂覆器件为3.9%。四次重复测量中,MEA涂覆器件的η值波动更小,表明循环稳定性显著提升,归因于界面电阻降低和寄生损耗抑制。截面分析显示,MEA涂覆器件热端保持Cu/焊料/MEA/In
1.2的清晰层状结构,无金属间化合物;而未涂覆器件出现Sn–Sb–In富集的岛状化合物。
**讨论与结论**
讨论部分指出,玻璃态MEA薄膜通过抑制快速晶界扩散,有效阻止了Ni从焊料向CoSb
3基体的团聚,减少了有害金属间化合物的形成,从而提高了单腿器件的循环稳定性。尽管峰值效率提升有限(4.2% vs 3.9%),但MEA涂覆器件在多次循环中的效率偏差更小,接触电阻更稳定,体现了其作为扩散阻挡层的优越性。研究结论部分翻译如下:开发了一种富Ti的Ti–Al–Ni–Cr中熵合金(MEA)薄膜,作为CoSb
3基热电模块的界面扩散阻挡层。通过相图工程确定了β-Ti单相区,用于指导薄膜溅射的组分空间。与常规Ni阻挡层相比,玻璃态单相MEA层抑制了In–CoSb
3界面的快速晶界互扩散,将传输主要限制为更慢的体扩散。而Ni/In–CoSb
3界面通过晶界和体扩散路径发生严重互扩散,导致二次相和金属间化合物形成,降低性能和可重复性。在器件层面,ΔT = 50–350?K的三次循环测量确认了MEA涂覆单腿的循环稳定性。虽然峰值效率增益不大,但MEA涂覆器件表现出显著改善的循环稳定性,与界面电阻降低和寄生损耗抑制一致。界面分析进一步表明,MEA涂覆的热端接头保持Cu/焊料/MEA/In
1.2的清晰层状结构,化学界面陡峭,即使在623?K也未观察到金属间化合物。该研究建立了玻璃态MEA薄膜作为稳健、可设计的界面稳定化平台,为耐久、高性能热电模块提供了可扩展途径。