由于SnO2纳米线具有优异的电子迁移率、高表面活性和宽带隙(Eg = 3.6 eV)半导体特性[1], [2], [3], [4], [5], [6],它们在下一代高性能气体传感器、光电 detectors和储能设备中展现出广泛的应用前景。目前,制备SnO2纳米线的主要方法包括气液固(VLS)催化[7], [8]、化学气相沉积(CVD)[9], [10]、溶液基方法[11]和模板辅助方法[12], [13]。其中,气相沉积因能够实现大面积可控生长而被广泛采用。这些方法通常依赖于外部金属催化剂(如Au [14], [15])、特定的气相前体或载气环境,这增加了工艺复杂性并可能引入外部催化剂残留物。因此,开发一种无需外部金属催化剂的简单固态方法来制备1D SnO2纳米结构仍然是一个重要的目标[16], [17], [18]。
近年来,三元层状MAX相材料因其独特的结构和功能特性而受到广泛关注[19], [20]。MAX相通常具有层状Mn+1AXn结构,其中n = 1, 2或3。在这些结构中,A位元素与M–X层之间的结合相对较弱,使得A位元素在高温或氧化环境中易于选择性提取[21], [22]。作为一种典型的含Sn MAX相,Ti2SnC在高温下会发生结构分解,促使A位Sn原子从晶格中扩散和迁移。这一特性为构建无需外加金属催化剂的SnO2纳米线系统提供了新的可能性。
实现SnO2纳米线可控制备的关键在于调节Ti2SnC高温氧化过程中的分解动力学和Sn沉淀行为。先前的研究表明,Ti2SnC在惰性气氛中具有较高的热稳定性,分解温度可达到1350 ℃[23];而在空气环境中,其抗氧化性相对有限,在大约500 ℃以上会发生多阶段的“氧化-分解-再氧化”过程[24]。值得注意的是,在550–600 ℃的氧化过程中,除了TiO2和SnO2的形成外,还检测到了金属Sn和TiCx中间相[25], [26]。这些观察表明,Sn可以从Ti2SnC中以金属形式析出并在氧化过程中局部富集。
然而,现有的研究主要集中在Ti2SnC的相组成演变和氧化动力学上,而释放的金属Sn在一维纳米结构生长中的作用仍不够清楚[26], [27]。受此启发,我们开发了一种无需外加金属催化剂的方法,利用Ti2SnC在空气中的高温氧化过程中释放的金属Sn来生长SnO2纳米线。实验结果表明,Ti2SnC在高温下逐渐发生氧化分解,持续释放A位Sn。当温度达到临界范围时,释放的Sn参与了SnO2的成核和生长。同时,Ti2SnC层状结构的逐步分解在纳米线根部持续供应Sn物种。分解基底的局部结构环境可能影响它们的迁移和分布,从而促进持续的一维生长。在更高温度的氧化条件下,观察到了混合氧化产物中的SnO2纳米线,进一步了解了MAX相中A位元素在氧化过程中的结构演变。