将湿法洗涤与亚硫酸盐/紫外光氧化技术集成在Al2CuO4催化剂上,用于高效去除甲基硫醇

《Separation and Purification Technology》:Wet scrubbing-integrated sulfite/UVC photooxidation over Al 2CuO 4 for efficient methyl mercaptan removal

【字体: 大 中 小 】 时间:2026年09月03日 来源:Separation and Purification Technology 9.1

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   摘要 甲基硫醇(MeSH)是一种具有强烈气味的含硫挥发性有机化合物(VOC),其气相光化学去除过程受到质量传递、氧化不完全和不稳定副产物的限制。本文开发了一种基于亚硫酸盐/UVC的连续湿法洗涤高级氧化工艺(Al2CuO4-S(IV)/UVC)来去除MeSH,其中CaSO3作为

  

摘要

甲基硫醇(MeSH)是一种具有强烈气味的含硫挥发性有机化合物(VOC),其气相光化学去除过程受到质量传递、氧化不完全和不稳定副产物的限制。本文开发了一种基于亚硫酸盐/UVC的连续湿法洗涤高级氧化工艺(Al2CuO4-S(IV)/UVC)来去除MeSH,其中CaSO3作为缓释的S(IV)来源,而Al2CuO4在UVC照射下作为双途径催化剂。在优化条件下(0.20?g?L?1 Al2CuO4、4?mM CaSO3、pH 7.0),系统在约100分钟内实现了MeSH的完全去除,并在整个运行过程中的剩余380分钟内保持了90.0%以上的去除率,同时对pH值、入口浓度和试剂剂量的变化具有很强的适应性。同时,Al2CuO4促进了UVC照射下的S(IV)自氧化,并通过Cu(II)/Cu(I)氧化还原循环持续提供反应活性物种。基于淬火实验、ESR自由基捕获和硫物种分析的机理研究表明,SO5•?/SO4•?和•OH具有不同的作用和生成途径。在该系统连续添加S(IV)的处理过程中(1920分钟),MeSH的去除率仍保持在90.0%以上,证明了其适用于连续湿法洗涤操作。总体而言,Al2CuO4-S(IV)/UVC湿法洗涤工艺为气体吸收与原位氧化耦合提供了有前景的平台,展示了其在强化VOC净化方面的潜力。

引言

硫醇是一类含有巯基(?SH)的挥发性含硫化合物,其中甲基硫醇(MeSH)是来自石油精炼、造纸、废水处理、垃圾填埋场和其他工业活动的主要恶臭污染物[1],[2],[3],[4]。由于其高挥发性、极低的气味阈值、毒性和腐蚀性,有效控制MeSH对于环境保护和工业运作至关重要[2],[3],[4],[5],[6]。传统的MeSH处理方法包括吸附、热氧化或催化氧化以及生物处理。活性炭、沸石和金属有机框架可以通过孔隙填充和表面络合作用去除MeSH,但其实际应用受到容量限制、潮湿条件下的竞争性吸附、再生需求以及二次固体废物的影响[3],[7],[8]。催化氧化具有良好的去除效率,但通常需要较高的温度,并可能面临硫中毒或部分氧化硫产物积累的问题[9],[10]。尽管生物滤器和生物滴滤器在温和条件下可以实现高效去除,但它们的长期性能往往受到pH值、湿度、微生物活动、有毒代谢物和入口负荷变化的影响[11],[12]。这些限制促使人们开发出能够将高效气体捕获与快速可控的氧化转化结合的连续处理工艺。
高级氧化工艺(AOPs)能够生成高活性物种,如•OH、SO4•?和1O2,从而在相对温和的条件下氧化吸收的MeSH及其含硫中间体[13]。因此,将AOPs与湿法洗涤结合特别具有吸引力,因为MeSH具有较高的水溶性,在碱性条件下可进一步以CH3S?的形式存在。这种相转移策略增加了反应液体中的污染物浓度,减轻了传统气相光解或光催化过程中接触时间短和反应活性物种利用率低的问题。直接UVC照射可以在230–270?nm范围内激发水溶性硫醇,生成主要重组为二硫化物的硫醇自由基,而不是发生完全矿化[14]。然而,基于气相的UV过程同样受到质量传递、氧化不完全、催化剂失活和实际操作条件下副产物不确定性的限制[15],[16]。因此,需要一种能够在碱性洗涤条件下有效激活合适前体的UVC驱动氧化工艺。
在这种背景下,基于亚硫酸盐的AOPs为传统PMS/PDS系统提供了一种潜在的经济替代方案,因为S(IV)可以通过UV照射或过渡金属位点直接激活形成氧硫自由基。SO32?/HSO3?的光激发会产生SO3•?,后者与溶解的O2迅速反应生成SO5•?,随后通过氧硫自由基链反应生成SO4•?[17],[18],[19],而这些途径适用于有利于MeSH吸收的碱性环境。然而,像Na2SO3这样的易溶性亚硫酸盐会发生快速自氧化,导致短暂的自由基产生和长期性能不佳。CaSO3可以通过作为缓释的S(IV)来源并同时提供局部碱度来缓解这一限制[20]。进一步的改进需要一种能够吸附硫化合物、激活S(IV)并利用入射UVC的异质催化剂,其中金属氧化物是特别合适的候选者,因为它们的暴露金属位点有利于界面吸附和氧化还原循环[21]。此外,它们的半导体特性还使光生电荷载流子能够驱动氧化反应。特别是Al2CuO4因基于Cu的活性位点能够促进含硫化合物的吸附和Cu(II)/Cu(I)氧化还原循环,以及其半导体特性能够促进UVC诱导的光催化氧化,而具有多重优势。
在本研究中,开发了一种名为Al2CuO4-S(IV)/UVC的连续湿法洗涤高级氧化工艺来去除MeSH。该工艺使用CaSO3作为缓释的S(IV)来源,以支持持续的亚硫酸盐释放和碱性MeSH吸收,而Al2CuO4用于启动S(IV)介导的分子氧激活和UVC驱动的光催化反应。通过改变催化剂剂量、CaSO3浓度、初始pH值、UVC强度和入口MeSH浓度来评估运行性能。基于淬火实验、ESR、硫物种分析、光学表征和XPS的机理分析揭示了S(IV)自氧化、Cu氧化还原循环和光催化氧化在维持反应活性物种生成中的协同作用。间歇性补充CaSO3的连续操作进一步验证了该工艺的持久性,证明了其作为强化VOC净化规模化策略的潜力。

章节摘录

化学物质和材料

亚硫酸钙(CaSO3)、亚硫酸钠(Na2SO3)、亚硫酸氢钠(Na2S2O5)、连二亚硫酸钠(Na2S2O4)、对苯醌(p-BQ)、三乙醇胺(TEOA)、呋喃醇(FFA)和N,N-二甲基-p-苯二胺二盐酸盐从上海阿拉丁生化科技有限公司获得。氢氧化铝(Al2CuO4)、二硫化甲醚(CH3SSCH3)、10%甲基硫醇异丙醇溶液和九水合硫化钠(Na2S•9H2O)从上海麦克林生化有限公司购买

Al2CuO4的结构和形态表征

由于异质S(IV)自氧化主要发生在催化剂-溶液界面,因此其效率受到催化剂可接触表面的形态和晶体结构的显著影响。因此,通过SEM、TEM/HRTEM、XRD和N2吸附-脱附测量系统地研究了Al2CuO4的形态、相组成和孔隙特性(图1)。
SEM图像(图1a和S2a)显示Al2CuO4主要由微米级颗粒组成

结论

开发了一种结合Al2CuO4、CaSO3衍生的S(IV)和UVC照射的湿法洗涤光氧化工艺,用于连续去除MeSH。CaSO3作为缓释的S(IV)来源和碱性吸收促进剂,而Al2CuO4既作为Cu介导的S(IV)自氧化催化剂,也作为UVC响应的光催化剂。在代表性条件下(0.20?g?L?1 Al2CuO4、4?mM CaSO3、初始pH 7.0和254?nm UVC照射下,系统实现了MeSH的完全去除

CRediT作者贡献声明

吴迪:数据整理、正式分析、研究、初稿撰写。卢坤:数据整理、研究、可视化。库彦邦:验证、正式分析。郭振:正式分析、研究。王wenyu:方法学设计、验证、撰写-审稿与编辑。李金军:撰写-审稿与编辑、资源协调。吴峰:概念构思、撰写-审稿与编辑、项目监督、资金申请。

利益冲突声明

作者声明没有已知的可能影响本文报告工作的财务利益或其他个人关系。

致谢

本研究得到了中国国家重点研发计划(2023YFC3707500)的支持。
吴迪|卢坤|库彦邦|郭振|王wenyu|李金军|吴峰湖北生物质资源化学与环境生物技术重点实验室,武汉大学资源与环境科学学院,中国武汉430079
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