输出功率密度为 21.1 W/mm 的 Ka 波段 V 沟槽 AlGaN/GaN/AlN HEMT

《IEEE Microwave and Wireless Technology Letters》:Ka-Band V-Gate AlGaN/GaN/AlN HEMT With 21.1-W/mm Output Power Density

【字体: 大 中 小 】 时间:2026年09月04日 来源:IEEE Microwave and Wireless Technology Letters 3.4

编辑推荐:

   摘要:本研究报道了一种用于毫米波(mm-wave)应用的高功率AlGaN/GaN/AlN高电子迁移率晶体管(HEMT)。得益于AlN缓冲层提供的增强的二维电子气(2DEG)约束以及带斜面场板(SFP)的V形栅极实现的降低电场,该器件实现了189 V的击穿电压(VBR)和1.8

  

摘要:

本研究报道了一种用于毫米波(mm-wave)应用的高功率AlGaN/GaN/AlN高电子迁移率晶体管(HEMT)。得益于AlN缓冲层提供的增强的二维电子气(2DEG)约束以及带斜面场板(SFP)的V形栅极实现的降低电场,该器件实现了189 V的击穿电压(VBR)和1.84 A/mm的最大漏极电流密度(Id,max)。在30 GHz脉冲模式下的大信号性能显示,在60 V的漏源电压(Vds)下,最大输出功率密度(Pout,max)为21.1 W/mm,优于此前报道的毫米波GaN HEMTs。
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