通过氧化石墨烯膜中的氧官能团工程调控卤素阴离子渗透序列

《Separation and Purification Technology》:Switching halide anions permeation sequence through oxygen functional group engineering in graphene oxide membranes

【字体: 大 中 小 】 时间:2026年09月06日 来源:Separation and Purification Technology 9.1

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   摘要纳米通道中的阴离子选择性传输在膜分离、资源回收和能量转换领域具有重要意义。然而,与阳离子系统的广泛研究相比,阴离子跨膜迁移的主导相互作用分子机制和传输控制因素仍不清晰。本文以氧化石墨烯膜(GOMs)中的常见阴离子,即F?、Cl?、Br?和I?为例,研究了阴离子的迁移分子机

  

摘要

纳米通道中的阴离子选择性传输在膜分离、资源回收和能量转换领域具有重要意义。然而,与阳离子系统的广泛研究相比,阴离子跨膜迁移的主导相互作用分子机制和传输控制因素仍不清晰。本文以氧化石墨烯膜(GOMs)中的常见阴离子,即F?、Cl?、Br?和I?为例,研究了阴离子的迁移分子机制及调控方法。有趣的是,我们发现通过调节GOMs的氧化程度可以显著重新编程卤素阴离子的渗透顺序,且该现象并非由阴离子尺寸效应所致。随着氧化程度的降低,离子渗透顺序从Cl? ~ Br? > F? > I?转变为Cl? > Br? > F? > I?,再到F? > Cl? > Br? > I?,其中F?的迁移变化最为显著。理论计算表明,离子渗透顺序的转变主要归因于阴离子尺寸诱导的空间排斥与阴离子和石墨烯层之间的弱相互作用之间的竞争,尤其是氧官能团和阴离子诱导的氢键相互作用的调控。基于这一认识,我们实现了F?/Cl?、F?/Br?、F?/I?、Cl?/Br?、Cl?/I?和Br?/I?体系中离子选择性分别从0.79、0.79、1.05、1.03、1.16和1.15提升至1.24、1.35、1.56、1.11、1.44和1.39。我们的研究结果为理解复杂纳米限域界面上阴离子传输分子机制提供了新见解,并促进了阴离子膜分离、资源回收和能量转换技术的发展。

引言

阴离子选择性传输是膜分离[1,2]、资源回收[3,4]、能量转换[5,6]和生物离子通道[7,8]中的基本科学挑战。近年来,离子筛分领域取得了重大进展,但大多数研究主要集中在阳离子系统[9,10]上,其中传输选择性通常由尺寸排阻[10,11,12]、Donnan排斥[13,14]、离子脱水屏障[15,16]以及特异性界面相互作用[17,18]控制。相比之下,阴离子传输仍远未被充分探索,特别是对于具有相同价态但物理化学性质不同的卤素阴离子(F?、Cl?、Br?和I?),其跨膜迁移行为及主导相互作用机制仍不清楚。然而,卤素阴离子的选择性传输在含氟废水处理[19,20]、溴提取[21,22]以及氯碱相关工艺[23]等应用中具有重要意义,凸显了阐明其传输机制的科学意义。
二维氧化石墨烯膜(GOMs)凭借其可调的层间纳米通道、多功能表面化学和结构鲁棒性,已成为离子筛分的前景平台[24,25,26,27]。因此,阐明GOMs中离子传输的分子机制日益受到关注。先前的研究表明,阳离子传输可以通过阳离子-π相互作用[28,29]调节GOMs的层间结构或在纳米通道中引入功能组分[10,30]得到有效调控。例如,Kim等人[31]系统研究了不同层间距GOMs中的阳离子传输,发现离子渗透随水合离子尺寸的增大而降低。Chen等人[10]利用阳离子-π相互作用将不同尺寸的水合阳离子精确嵌入GO纳米通道中,实现了对层间距的埃级控制并实现了不同阳离子的选择性传输,表明界面非共价相互作用在控制二维纳米通道中离子传输方面起着关键作用。相比之下,GOMs中阴离子传输的研究仍相对有限。现有研究主要集中在单价和多价阴离子的分离[32,33]上,而相同电荷态和相似尺寸的单价阴离子的选择性传输受到的关注较少,尤其是卤素阴离子。此外,除了传统的空间和静电效应外,界面非共价相互作用在控制卤素离子通过石墨烯纳米通道传输中的作用仍不清楚。在我们之前的工作中,Shi等人[34]通过密度泛函理论(DFT)计算揭示,卤素阴离子也可以通过与石墨烯的阴离子-π相互作用发生相互作用,其中F?在单层石墨烯上表现出比Cl?(?7.7 kcal mol?1)和Br?(?6.0 kcal mol?1)强得多的吸附能(?16.3 kcal mol?1)。此外,Chen等人[18]实验观察到GOMs对F?的截留率高于Cl?和Br?,进一步表明F?在石墨烯纳米通道中的迁移行为更慢。这些研究表明,界面非共价相互作用可能在控制卤素阴离子迁移行为方面同样起着关键作用。
GOMs通常通过界面改性策略进行工程化以满足不同分离场景的需求[35,36],其中调节GO的氧化程度是最常用的方法之一[32,37]。含氧官能团的变化不仅改变了GO纳米通道的界面化学环境[38,39],还可能进一步影响阴离子与膜骨架之间的非共价相互作用。然而,不同氧官能团含量GOMs中卤素阴离子的迁移行为及其内在机制仍很大程度上未被探索。
鉴于上述考虑,本文系统地研究了F?、Cl?、Br?和I?在二维GO纳米通道中的迁移行为,通过构建不同氧官能团含量的膜来实现。我们发现,通过调节GOMs中的氧含量可以显著重新编程卤素阴离子的渗透顺序,其中F?表现出最显著的迁移行为变化。进一步分析表明,氢键——一种在富氧界面上普遍存在但常被忽视的非共价相互作用——与离子尺寸效应协同作用,在调控卤素阴离子渗透顺序的重构中起着主导作用。基于该机制,F?/Cl?、F?/Br?、F?/I?、Cl?/Br?、Cl?/I?和Br?/I?体系中的离子选择性分别显著提高了57.0%、70.9%、48.6%、7.8%、24.1%和20.9%。这些研究结果表明,调节GO纳米通道中的氧官能团含量可以有效提高氟离子和其他卤素离子的选择性分离,为含氟废水处理以及溴和碘资源的回收提供了可行策略。更重要的是,本工作为二维纳米限域通道中阴离子传输机制提供了新见解,并为下一代阴离子选择性膜的合理设计提供了指导。

章节摘要

材料

石墨粉、浓硫酸(H2SO4)、过硫酸钾(K2S2O8)、五氧化二磷(P2O5)、高锰酸钾(KMnO4)、过氧化氢(H2O2)和盐酸(HCl)购自国药试剂股份有限公司。硝酸钾(KNO3)、氟化钠(NaF)、氯化钠(NaCl)、溴化钠(NaBr)、碘化钠(NaI)和硫酸钠(Na2SO4)购自上海阿拉丁生化科技股份有限公司。所有水溶液均

氧化石墨烯(GO)悬浮液的制备

GO悬浮液按照改良Hummers法合成,如我们之前的研究所描述[10,12]。简要来说,将石墨粉加入浓H2SO4、K2S2O8和P2O5的混合物中,在80°C下持续搅拌数小时以获得预氧化石墨。将所得混合物稀释,随后离心并用去离子水反复洗涤。在60°C下真空干燥后,收集预氧化石墨。
随后,将预氧化

GOMs的制备与表征

较大的横向尺寸有助于减少边缘主导的传输并延长GO纳米通道内的离子传输路径,从而有利于识别不同离子间渗透顺序的变化。GO悬浮液采用改良Hummers法制备,所得GO纳米片的平均横向尺寸约为~1.2 μm,单层厚度约为~1.2 nm(图S1),这与我们之前的工作一致[10,12]。
高氧含量的GOMs

结论

综上所述,我们通过与简单的热还原策略实现了GOMs中约15%的含氧官能团含量变化,同时最大限度地减少了其他物理化学参数的影响。系统的传输研究表明,GO纳米通道中卤素阴离子的渗透顺序可以通过调节氧含量得到有效重新编程。具体而言,随着氧化程度的降低,离子渗透顺序从Cl? ~ Br? > F? > I?转变为Cl? > Br

CRediT作者贡献声明

邱银伟:撰写——初稿,方法论,调查研究,形式化分析,概念化。雷水雄:资源,方法论,调查研究,形式化分析。郝俊杰:方法论,形式化分析。冯奥云:方法论,调查研究。丁涛:方法论。徐禧琪:可视化。高一鸣:形式化分析。张志强:调查研究。王帅彬:形式化分析。刘宇清:方法论。刘兴:方法论,资助获取。陈俊杰:撰写——审阅与

利益冲突声明

作者声明不存在可能影响本文所述工作的已知竞争经济利益或个人关系。

致谢

本工作得到上海市科学技术委员会(24010700200)、国家自然科学基金(12574227)、上海市自然科学基金(25ZR1402157)、青海省自然科学基金(2023-ZJ-940J)以及中国博士后科学基金会博士后创新人才支持计划(资助编号GZC20252186和2025M783410)的资助。
邱银伟|雷水雄|郝俊杰|冯奥云|丁涛|徐禧琪|高一鸣|张志强|王帅彬|刘宇清|刘兴|陈俊杰|黄旭|石国生
中国上海市200444,上海大学,上海应用辐射研究院,先进核能材料国家重点实验室,无机二维超级材料原子控制与应用上海市重点实验室
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