关于InP HEMTs中InxGa1?xAs沟道的噪声特性(研究温度范围为4 K至300 K)

《IEEE Journal of the Electron Devices Society》:On the InxGa1?xAs channel noise in InP HEMTs from 4 K to 300 K

【字体: 大 中 小 】 时间:2026年09月08日 来源:IEEE Journal of the Electron Devices Society 2.9

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   摘要: InP高空子迁移率晶体管(HEMT)对于射电天文学和量子计算中的低噪声放大器(LNAs)至关重要。众所周知,InxGa1?xAs通道的组成会影响LNAs的噪声性能。然而,导致噪声产生的各种物理机制尚未被完

  

摘要:

InP高空子迁移率晶体管(HEMT)对于射电天文学和量子计算中的低噪声放大器(LNAs)至关重要。众所周知,InxGa1?xAs通道的组成会影响LNAs的噪声性能。然而,导致噪声产生的各种物理机制尚未被完全理解和描述。在这里,我们研究了4 K到300 K范围内、栅长为100纳米、铟含量分别为53%、60%和70%的InP HEMT的InxGa1?xAs通道噪声。通过晶圆上的测量以及基于LNAs的测量方法,分别覆盖40-300 K和4-40 K的温度范围,提取了等效漏极噪声温度Td来量化通道噪声。结果显示,60%铟含量的InP HEMT在整个温度范围内具有最低的通道噪声。从晶圆上获得的Td数据表现出抛物线型的温度依赖性,这一关系很好地预测了所有InP HEMT在4 K时的Td值,与基于LNAs的测量结果一致。将通道噪声表示为一个热噪声项和一个额外噪声项的和,发现热噪声项随环境温度线性增加,并在300 K时占主导地位。4 K时的通道噪声主要由额外噪声项决定,并且其强度与InP HEMT中的铟含量呈非单调关系。研究结果表明,InxGa1?xAs通道中的额外噪声不仅来源于与温度无关的散粒噪声,还来源于撞击电离和实空间传输噪声。
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