我们利用原子力显微镜研究了吸附在硅片上的平衡层中聚(L-乳酸)(PLLA)链的结晶行为。所得片晶呈现出以侧立(edge-on)取向为主的特点。随着分子量的增加,这种趋势愈发显著。对逐步退火旋涂薄膜的补充研究揭示,每条聚合物链的吸附位点数(NAS)逐渐增加,这与PLLA羰基与基底–OH之间的氢键有关,进而导致结晶形貌从以平躺(flat-on)为主逐渐转变为以侧立(edge-on)为主。以NAS为关键参数,可以认识到在平衡的PLLA吸附层中优先形成侧立片晶的潜在机制:由于每条链存在多个吸附位点,PLLA链被强烈地锚定在基底上,其活动性受到显著限制。介于锚定点之间的非锚定环段被限制在纳米级层内,并优先平行于基底取向。侧立片晶的成核与生长在动力学上占优,因为吸附链可以通过微小且主要为局部的构象调整轻松嵌入晶格中。因此,链的优先面内取向在很大程度上得以保持,使得侧立片晶占主导地位,且其比例随NAS增大而增大。NAS与所得介观结晶形貌之间的联系,为理解聚合物链在纳米限域条件下的结晶行为提供了基本见解,其中吸附强度由NAS表征。