氧化铟(In2O3)及其衍生物表现出广泛的催化能力 [1], [2],尤其在CO2加氢制甲醇 [3], [4] 和合成气转化制轻烯烃 [5], [6] 中表现出优异的选择性。最优反应速率需要较高温度,但当温度高于543 K时,In2O3的选择性急剧下降 [7],阻碍了其商业化应用 [8]。这是因为氧化铟的化学性质更为活泼,在高温下容易发生烧结和过度还原而失活。因此,在不影响选择性的前提下提高氧化铟基催化剂的高温稳定性已成为研究热点。
阐明In2O3表面的加氢反应机制可为提高In2O3基催化剂的高温选择性和稳定性提供理论指导。文献研究表明,In2O3上的加氢机制通过两步进行:(i) 反应物在表面氧空位上的吸附 [6], [9], [10], [11] 和 (ii) H2在氧化物表面的活化 [12], [13], [14]。为促进步骤(i),研究人员有策略地将Au、Ag、Pd、Rh、Ru、Re、Pt、Ni、Al、Co、Cu和Ga等元素掺杂到In2O3中 [14], [15], [16], [17],实现了对氧空位(V0)浓度的精确调控,增强了底物吸附,最终提高了CO2转化效率和甲醇产率 [8], [18], [19], [20], [21]。对于步骤(ii),相关研究证实,增强In2O3表面上的H2吸附和解离是提高其催化活性的有效策略 [22], [23]。这是因为表面氢化物(H?和H?)在多种催化过程中起着关键作用,包括CO加氢制甲酸盐、CO2加氢制甲醇和烯烃加氢。在催化加氢反应中,H2解离机制对加氢性能起着决定性影响 [24]。In2O3表面的氢解离通过两种不同机制进行:同裂解离和异裂解离 [8], [25], [26], [27]。同裂解离生成两个中性氢原子,主要以外溢氢的形式在贵金属负载体系中发挥作用 [28], [29]。异裂解离同时在铟位点产生氢化物离子(H-)和在氧位点产生质子(H+),形成M?H和OH物种。近期研究表明,H- 对极性键的优先加氢表现出独特的反应活性 [24], [30],凸显了其在加氢催化中的巨大潜力 [30]。然而,In2O3表面结构与H-生成之间的关系 [31],特别是H-迁移和转化对后续加氢反应的影响,仍未得到充分探索 [32]。
本工作中,我们研究了In2O3的主导(222)晶面。基于不同的原子尺度特征,将表面划分为"花芯"(中心区域)和"花瓣"(非中心区域)。利用DFT系统研究了H2在In2O3表面不同区域的吸附和解离行为。此外,通过AIMD模拟了氢物种的迁移和转化路径,并结合H2-TPD、原位NAP-XPS和DPMD方法验证了其稳定性。在此基础上,以Sn掺杂In2O3为例,利用DFT和DPMD对比了In2O3基材料上H2解离行为和氢物种布居的差异。通过催化加氢实验进一步验证了不同氢物种在催化过程中的作用。研究发现,H2的异裂和同裂解离表现出显著的区域选择性。生成的活性氢物种经历三条不同的迁移和转化路径,分别生成In-H、O–H和H2,系统阐述了各路径对加氢过程的影响。阐明的H-迁移机制为设计具有热稳定性的In2O3基催化剂提供了指导。