《Ultrasonics Sonochemistry》:Sonochemical degradation of CCl
4 and its effects on the degradation of organic pollutants in water: A review
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由水发生声解(sonolysis)所形成的羟基自由基(•OH radicals)可用于降解多种有害有机化合物。该水处理技术作为基于•OH的高级氧化工艺(advanced oxidation processes, AOPs)受到广泛研究。然而,•OH自由基的声化
由水发生声解(sonolysis)所形成的羟基自由基(•OH radicals)可用于降解多种有害有机化合物。该水处理技术作为基于•OH的高级氧化工艺(advanced oxidation processes, AOPs)受到广泛研究。然而,•OH自由基的声化学形成需要大量电能,因此该技术面临高成本挑战。本综述聚焦CCl4的声解,其降解速率比水高一个到两个数量级。基于CCl4与相关有机化合物特征比较,研究人员提出CCl4在有机化合物中发生最快的声化学降解。Weissler等人提出,水中CCl4声解形成的氯自由基(•Cl radicals)可作为氧化I?的有效氧化剂,该反应称魏斯勒反应(Weissler reaction),并用于评价超声空化化学效应。此外,•Cl自由基可加速水中染料、芳烃、抗生素等有害有机物降解。由于CCl4也可发生还原降解,其还原脱氯对环境修复具意义。综述这类易降解有机物CCl4的声解知识,对未来高效超声水处理技术发展有意义。
研究背景方面,超声空化(ultrasonic cavitation)在水处理中可产生泡内高温高压,形成羟基自由基(•OH radicals)并构成基于•OH的高级氧化工艺(AOPs)。但水分子的H–OH键解离能高,声解产•OH能耗大、成本高,限制实用化。CCl4的Cl–CCl3键解离能低、蒸气压适中、亨利定律常数较高,比水更容易进入空化泡并热解,且可释放氯自由基(•Cl radicals)促进共存污染物降解,还可发生还原脱氯,因此以CCl4为模型研究声化学机理与增效机制,对发展高效超声水处理技术有重要价值。该论文发表在《Ultrasonics Sonochemistry》。
主要关键技术方法上,研究人员采用魏斯勒反应(Weissler reaction,以CCl4存在下KI溶液中I3?生成量评价空化化学效应)、亨利定律常数(Henry's law constant)与键解离能比较、冲击波管(shock tube)高温动力学数据、单泡氩气空化修正Keller–Miksis方程模拟,以及电子自旋共振(ESR)、Fricke剂量计、对苯二甲酸荧光法、声致发光等自由基剂量方法,用以关联泡内温度、挥发分配与物种产率。
研究结果部分,第一节引言指出空化形成泡内、界面、本体三相反应区,CCl4因低键能和中度挥发性较水更易热解,魏斯勒反应可作低化学活性空化体系的灵敏剂量计。第二节Weissler reaction中,研究人员由含CCl4的KI水溶液超声实验得出,CCl4热解产生•Cl与Cl2,氧化I?生成I3?;CCl4存在时I3?生成速率是无CCl4时的数倍至数十倍,且CCl4浓度升高可进一步增强;相比水声解产•OH与H2O2,CCl4体系氧化当量更高,适用于弱空化体系评价。第三节Sonochemical degradation of CCl4 in water中,研究人员汇总1990年代以来文献得出,CCl4降解速率可为水声解速率的6.6至36倍;产物以CO、Cl?为主,HOCl与C2Cl4、C2Cl6为少量中间体;频率效应上,水声解效率在约500 kHz较优,而CCl4降解受泡内CCl4摩尔分数影响,摩尔分数增加会降低最大泡温但提高氯物种产率。第四节降解共存有机物中,添加CCl4使染料、芳烃、抗生素等降解速率常数提升1.4至160倍,机制为•Cl与•CCl3等进入界面和本体溶液参与氧化。第五节还原降解中,研究人员指出CCl4可发生还原脱氯,对氯代有机物环境修复具价值。
讨论与结论部分,研究人员认为CCl4声解比水声解阈值温度更低,可在较低温空化泡中发生,因此魏斯勒反应适合评价水力空化等弱化学空化体系;但泡温、压力、寿命与物种产率间因果仍缺实验直接证实。结论为:CCl4因低Cl–CCl3键能、适中蒸气压与较高亨利定律常数,在有机化合物中声化学降解最快;其声解产生•Cl radicals、•CCl3、:CCl2与Cl2,可显著提升共存有害有机物矿化与脱毒,并可经还原路径脱氯;以CCl4为模型综述其声解规律,能为低能耗、高效率超声高级氧化工艺(AOPs)与超声反应器剂量标定提供理论基础和应用方向。